رسوب نشانی الکتروفورتیک نانوذرات هیدراکسی آپاتیت در الکل های مختلف

سوسپانسیون نانوذرات هیدراکسی آپاتیت ( 20g/L ) در الکل های مختلف ( متانول، اتانول، ایزوپروپانول و بوتانول ) تهیه شدند و تریس ( تریس ( هیدراکسی متیل ) آمینومتان ) به عنوان پخش کننده استفاده شد. مشخص شد که یون های Tris+H که از پروتونه شدن تریس در سوسپانسیون های الکلی ایجاد می شود بطور شیمیایی روی نانوذرات HA از طریق برقراری پیوند هیدروژنی با گروه های P-OH سطحی آنها جذب می شوند و باعث افزایش پتانسیل زتا و در نتیجه پایداری کلوییدی آنها می- شوند. مشاهده شد که با افزایش وزن مولکولی الکل غلظت یون های Tris+H ایجاد شده کاهش می یابد بطوری که در غلظت های بیشتری از تریس سطح ذرات HA از یون های Tris+H اشباع می گردد؛ در نتیجه غلظت بهینه تریس در سوسپانسیون با افزایش وزن مولکولی الکل افزایش می یابد. رسوب نشانی الکتروفورتیک ( EPD ) در 60V و زمان های مختلف انجام شد. سینتیک EPD از سوسپانسیون های حاوی غلظت بهینه تریس بیشترین بود که ناشی از ماکزیمم بودن پتانسیل زتای ذرات و در نتیجه تحرک آنها در این سوسپانسیون ها بود. پوشش های رسوب داده شده از سوسپانسیون های حاوی غلظت بهینه تریس دارای ریزساختار یکنواخت با میزان اگلومراسیون پایین بودند؛ در نتیجه این پوشش ها می توانند به عنوان مانعی موثر در برابر سیال خورنده عمل کرده و از رسیدن آن به سطح زیرلایه جلوگیری کرده و باعث افزایش مقاومت به خوردگی آن شوند.

کلیدواژه ها:

رسوب نشانی الکتروفورتیک ( EPD ) ، نانوذرات هیدراکسی آپاتیت ( HA ) ، تریس ، الکل ، پوشش