مقاومت در برابر خوردگی مس در محلول اسید نیتریک هوادزدایی شده با پوشششیف باز
سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 517
فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
THCONF01_191
تاریخ نمایه سازی: 18 تیر 1396
چکیده مقاله:
در این تحقیق، شیف باز سالپن N-N بیس سالیسیدن -1 و -3 دی آمینو پروپان به صورت لایههای نازک خود مجموعه ساز به منظور حفاظت در برابر خوردگی مس در محیط هوادزدایی شده اسید نیتریک یک مولار استفاده شده است. نتایج آزمایشگاهی بدست آمده از روشهای پلاریزاسیون و طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی نشان داد که این لایههای نازک خود مجموعه ساز میتوانند حفاظت خوبی در برابر خوردگی مس در محیط اسید نیتریک یک مولار داشته و عملکرد پوششهای فوق از نوع مختلط میباشد. پلاریزاسیون برای ارزیابی ممانعتکنندگی خوردگی در غلظتهای مختلف برای مس در محیط اسید نیتریک یک مولار استفاده شد که نشان دهنده حداکثر راندمان بازدارندگی 94/03% برای لایههای نازک خودمجموعه ساز شیف باز سالپن N-N بیس سالیسیدن -1 و -3 دی آمینو پروپان بدست آمد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
امید حیدرزاده
مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران
مجتبی نصر اصفهانی
مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران
احسان صایب نوری
مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :