بررسی انرژی آزاد فلز مس پوشش داده شده به وسیله شیف باز در محیط اسیدی

در این تحقیق، از شیف باز سالپن N-N بیس سالیسیدن -1 و 3- دی آمینو پروپان به صورت لایههای نازک خودمجموعه ساز SAM به منظور حفاظت در برابر خوردگی مس در محیط اسید نیتریک یک مولار استفاده شده است. فیلم SAM از غوطه ور کردن نمونه مس در محلولهای ppm 500 و ppm 1000 شیف باز در الکل تهیه شد و مقاومت در برابر خوردگی آن در محلول اسید نیتریک یک مولار در محلول هوادهی شده مورد بررسی قرار گرفت. نتایج کاهش وزن نشان داد که این پوشش لایه نازک حاصل از محلول ppm 1000 شیف باز در دمای 50 درجه سانتی گراد در محیط اسید نیتریک یک مولار دارای حفاظت در برابر خوردگی بیش از 94 درصد میباشد. همچنین نتایج آزمایشگاهی ایزوترم لانگمویر نشان داد عملکرد پوششهای فوق از نوع مختلط میباشد. با استفاده از تصاویر SEM عملکرد سطحی شیف باز بر روی سطح نمونه مس بررسی شد. این تکنیک تشکیل فیلم لایه نازک شیف باز را نشان میدهد.

کلیدواژه ها:

خوردگی ، لایه های نازک خود مجموعه ساز ، پلاریزاسیون ، امپدانس الکتروشیمیایی