رفتار خوردگی لایه نازک آلیاژ حافظه دار NiTi در محلول رینگر
سال انتشار: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,401
فایل این مقاله در 15 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
SCMEMI07_009
تاریخ نمایه سازی: 13 اردیبهشت 1387
چکیده مقاله:
آلیاژ حافظه دار NiTi دارای خصوصیات منحصر به فردی نسبت به آلیاژهای دیگر چون حافظه داری و سوپرالاستیسیته می باشد که باعث کاربرد زیاد این آلیاژ در علم مهندسی پزشکی برای تولید ابزارها، استنتها، کاشتنی ها و سیمهای ارتودنسی و ک اربرد ویژه آنها در سیستمهای میکرو الکترومکانیکی در کاربردهای بیولوژیکی (BioMEMS) می باشد.هدف از انجام این تحقیق به دست آوردن رفتار خوردگی آلیاژ حافظه دا ر نایتینول که به صورت لایه نازک تهیه شده است، می باشد . برای این منظور به روش پلاریزاسیون پتانسیودینامیکی سیکلی و طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی در محلول محلول رینگر به عنوان یک محلول شبیه سازی شده بدن تستهای الکتروشیمیایی انجام شد . نتایج آزمایش ها نشان می دهد که نمونه های لایه نازک با گذشت زمان با تشکیل فیلم اکسیدی تا چندین برابر نرخ خوردگی را کاهش می دهند . همچنین خوردگی حفره دار شدن تا پتانسیلهای بالا نیز مشاهده نشد که نشانگر مقاومت بالای آن نسبت به خوردگی موضعی می باشد.
کلیدواژه ها:
نایتینول ، پلاریزاسیو ن سیکلی ، خوردگی ، محلول شبیه سازی شده بدن ، فیلم اکسیدی ، طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی
نویسندگان
احسان صائب نوری
دانشجوی دکترای مهندسی مواد - خوردگی و حفاظت
محمدتقی شهرابی فراهانی
دانشیار دانشگاه تربیت مدرس، گروه خوردگی سهراب سنجابی، استادیار دانشگ
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :