The surface topography of the semiconductor carbon-nickel composite films annealed at different temperatures
سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 444
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
TEDECE02_098
تاریخ نمایه سازی: 21 شهریور 1395
چکیده مقاله:
In this work, the fractal dimensions of carbon-nickel films annealed at different temperatures (300 – 1000 °C) were investigated. The RBS spectra show thatwith increasing the annealing temperatures, the concentration of nickel atoms into films decreases. The fractal dimensions and thetopography carbon-nickel films from 300 to800 °C are increased however; at 1000 °C these characteristics are decreased. It can be seen that at 500 °C films have maximum thefractal dimensions 2.54. The films annealed at 800 °C have maximum RMS roughness 3.03 nm.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
Vali Dalouji
Department of physics, Malayer University, Malayer, Iran
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :