بررسی آزمایشگاهی تأثیر شدت میدان مغناطیسی بر ضریب کشش سطحی نانو سیال Al2O3
سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 549
فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
OGPCONF01_067
تاریخ نمایه سازی: 19 اردیبهشت 1395
چکیده مقاله:
نانو سیال به محلول سوسپانسیونی اطلاق می شود که در آن ذرات فوق العاده ریز )کوچک تر از یکصد نانو متر( در سیالی خالص به حالت تعلیق در آورده شده باشد. این نانو ذرات از جنس فلز و یا اکسید فلزات و اغلب کروی شکل ویا استوانه ای هستند. این سوسپانسیون ها سری جدیدی از سیالات واسط حرارتی هستند که از معلق ساختن ذرات بسیار ریز در مایعات متداول مانند آب و اتیلن گلیکول به دست آمده اند و عملکرد حرارتی سیالات پایه را افزایشمی دهند. کشش سطحی ویژگی ای در مایعات است که باعث می شود لایه بیرونی آن ها به صورت ورقه ای کشسان عمل کند . در این جا نیز به بررسی تأثیری که میدان مغناطیسی بر روی کشش سطحی نانو سیال Fe3O4 می گذارد پرداخته می شود
کلیدواژه ها:
نویسندگان
عزالدین سیفی
دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشگاه آزاد اسلامی واحد شهرضا، گروه مهندسی شیمی
اسدالله ملک زاده
دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشگاه آزاد اسلامی واحد شهرضا، گروه مهندسی شیمی
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :