سنتز و بررسی خواص الاستومرهای قابل ریختهگری پلی ( یورتان - اوره ) با استفاده از عامل پخت تریاتیلن گلیکول بیس -4) آمینو بنزوات )
محل انتشار: اولین کنفرانس پتروشیمی ایران
سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,474
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPCONF01_320
تاریخ نمایه سازی: 6 آذر 1386
چکیده مقاله:
برای تهیه الاستومرهای پلییورتانی از طریق واکنش با پیشپلیمرهای مختوم به گروههای ایزوسیانات از انواع عوامل پخت و زنجیرافزایندهای آمینی استفاده میشود که هر یک دارای معایب و محاسن خاص خود میباشد . از جمله نکات حائز اهمیت عوامل پخت آمینی در دسترس بودن مواد اولیه لازم برای سنتز، غیر سمی بودن، بالا بودن فرصت کاربری، توانایی در ایجاد خواص فیزیکی و مکانیکی مناسب میباشد . در این کار پژوهشی برای تهیه گونههای جدید الاستومرهای پلی ( یورتان - اوره ) از تری اتیلن گلیکول بیس -4) آمینو بنزوات ) به عنوان عامل پخت آمینی برای پیشپلیمرهای یورتان مختوم به گروههای ایزوسیانات که از واکنش مقدار اضافی تولوئن دی ایزوسیانات و پلی کاپرولاکتون تهیه شدهاند، استفاده شده است . جهت تهیه عامل پخت از محصول تری اتیلن گلیکول شرکت پژوهش و فناوری مرکز اراک استفاده شده است . کلیه مواد تهیه شده توسط روشهای مرسوم شناسایی شدهاند و خواص فیزیکی و مکانیکی الاستومرهای نهایی نیز بررسی شده است . بررسی نتایج نشان دهنده مقاومت حرارتی خوب، خواص مکانیکی ایدهال این پلیمرها در مقایسه با انوع الاستومرهای پلییورتانی میباشد، ودر بررسی حرارتی نیز سیستم دوفازی که متشکل از یک فاز نرم و یک فاز سخت است مشاهده شده است .
کلیدواژه ها:
نویسندگان
حمید یگانه
دانشیار پژوهشگاه پلیمر و پتروشیمی ایران، دپارتمان پلییورتان، پژوهش
فاطمه شهسواری
پژوهنده گروه پژوهشهای پلیمری شرکت پژوهش و فناوری پتروشیمی، دپارتمان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :