Study of a nano-Scale Length Tri-Gate FinFET Based on 3-D Simulations
سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 632
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
COMCONF01_513
تاریخ نمایه سازی: 8 آذر 1394
چکیده مقاله:
In this paper, channel length changings are studied for Trigate SOI FinFET based on a 3-D simulation. Changing channel length is between 10 to 100 nm. output characteristics, threshold voltage, subthreshold slope and drain induced barrier lowering (DIBL), gm, ro are investigated.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
B Fakhr
Department of Electrical Engineering, Neyshabur Branch ,Islamic Azad University Neyshabur ,Iran
S.E Hosseini
Electrical Engineering Department, Ferdowsi University of Mashhad, Mashhad, Iran,
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :