Glancing Angle Sputter Deposition of Molybdenum Nanorods for Field Emission Applications

سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 634

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICNN05_856

تاریخ نمایه سازی: 30 آبان 1394

چکیده مقاله:

Molybdenum nanorods are grown with a standard RF sputtering system, by incorporation of a glancingangle deposition (GLAD) method. An automated, highly accurate substrate rotating and tilting system is designed andimplemented to enable in situ control of the GLAD process both automatically and manually by an external computersystem. It is shown that nanorods with average radii of below 50 nm, and average length of 850 nm can be grown bycollimated sputtering at the RF power of 300W, substrate rotation speed of 8 rpm, and substrate tilt of 80 degrees. It isalso shown that the collimator is an essential part of the nanorod growth by GLAD sputtering method.

کلیدواژه ها:

Molybdenum nanorods ، Glancing Angle Deposition (GLAD) ، sputtering

نویسندگان

H Monjezi

Department of Electrical Engineering, Sharif University of Technology, Azadi Avenue, Tehran, Iran

N Yasrebi

Department of Electrical Engineering, Sharif University of Technology, Azadi Avenue, Tehran, Iran

M Zaimbashi

Department of Electrical Engineering, Sharif University of Technology, Azadi Avenue, Tehran, Iran

A Riazi

Department of Electrical Engineering, Sharif University of Technology, Azadi Avenue, Tehran, Iran