بررسی عددی اثر تغییر قطر کانال بر مشخصه نویز فلیکر در ترانزیستور اثرمیدانی نانوسیم نیمههادی سیلیکونی

سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,325

فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

DCEAEM01_228

تاریخ نمایه سازی: 18 دی 1393

چکیده مقاله:

به کمک شبیهسازیهای رایانهای تاثیر تغییر قطر کانال ترانزیستور اثرمیدانی نانوسیم نیمههادی سیلیکونی بر مشخصه نویز فلیکر این افزاره را بررسی نمودیم. ما در ابتدا به مطالعه مبانی نویز فلیکر و سپس بدست آوردن شیوه محاسبه چگالیطیف توان نویز مذکور درترانزیستورهای نانوسیم نیمههادی پرداخته و در ادامه با استفاده از یک نرمافزار شبیهساز کوانتومی قدرتمند که محاسبات در آن بر اساسروش تابع گرین غیر تعادلی صورت میپذیرد، منحنیهای جریان- ولتاژ ترانزیستور نانوسیم نیمههادی سیلیکونی گیت فراگیر با تغییر قطر کانال، را بدست آوردیم. سپس بهکمک نرمافزار متلب منحنیهای مربوط به چگالی طیف توان نویز فلیکر را بدست آورده و مورد مقایسه و تحلیل قرار دادیم. نتایج حاصل نشان دادند که با ثابت نگاهداشتن سایر مشخصههای افزاره و کاهش قطر کانال نانوسیم سیلیکونی، میزان چگالی طیف توان نویز فلیکر کاهش می یابد که این امر ناشی از کاهش جریان درین در خلال کاهش قطر کانال می باشد.

کلیدواژه ها:

ترانزیستور اثر میدانی نانوسیم نیمههادی سیلیکونی ، گیت فراگیر ، چگالی طیف توان نویز ، نویز فلیکر ، تابع گرین غیرتعادلی

نویسندگان

محمدرضا حریری

دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی برق- الکترونیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد رشت، رشت، ایران

سیدعلی صدیق ضیابری

عضو هیات علمی گروه برق، دانشگاه آزاد اسلامی واحد رودبار، رودبار، ایران

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • J. Mardinly, 2010, Moore law and its effect on microscopy, ...
  • A. Chandrakasan, 2008, FINFETS and Other Multi-Gate Transistors, springer science ...
  • D. Vasileska, 2010, Cutting edge _ technology, In-teh Inc ...
  • H. Narendar, 2008, A Simulation Study of Enhancement mode Indium ...
  • K. Moges, 2011, Modeling Of Silicon Nanowire Field Effect Transistors, ...
  • K.J. Kuhn et al, 2010, Technology Options for 22nm and ...
  • Y. Yuan, 2012, Non-classicat MOSFETs: Design, modeling, and cha racterization ...
  • B.M. Wilamowski and J.D. Irwin, 2011, Fundamentag of Industrial Electronics, ...
  • S. Ju et al, 2008, 1/f noise of Sn O ...
  • S. Ju et al, 2008, Interface studies of ZnO nanowire ...
  • W. Wenyong, 2007, Low frequency noise cha racterizations of ZnO ...
  • S.R. Mehrotra, 2007, A simulation study of silicon nanowire Field-Effect- ...
  • J. Wang, 2005, Device physics and Simulation of Silicon nanowire ...
  • نمایش کامل مراجع