بررسی اثر توان پلاسما و زمان بر خواص اپتیکی واندازه نانو ذرات اکسید روی بر روی زیر لایه ی فلوئورین تین اکساید
محل انتشار: دومین همایش ملی فناوری نانو از تئوری تا کاربرد
سال انتشار: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 685
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCNTA02_025
تاریخ نمایه سازی: 14 شهریور 1393
چکیده مقاله:
در این تحقیق لایه نازک اکسید روی با روش کند وپاش روی زیر لایه FTO لایه نشانی شد. خواص الکتریکی و اپتیکی نمونه ها با تغییر توان و مدت زمان لایه نشانی مورد بررسی قرار گرفت . از روی آنالیز XRD مشاهده شد نمونه ای که مدت زمان لایه نشانی آن بیشتر بود، پیک های با قدرت بیشتری را دارد و رشد اکسید روی در آن در روی دسته صفحه ی ( 101 ) بارزتر است. نتایج آنالیز SEM نمونه ها نشان داد که در نمونه ی لایه نشانی شده با توان بیشتر ، ذراتی با ابعاد بزرگتر وبا قدرت تفکیک بیشتری تشکیل شده است. با استفاده از طیف سنج UV -VI -IR این نتیجه به دست آمد که نمونه ی لایه نشانی شده با توان لایه نشانی بیشتر میزان انعکاس و عبور بیشتر و جذب کمتری را در محدوده طو ل موج 200 تا 700 نانومتر از خود نشان می دهد. نتایج این بررسی را می توان برای تولید نانو ذرات اکسید روی با اندازه مشخص و خواص اپتیکی معین،بکار برد.
کلیدواژه ها:
نانو ذرات طیف جذب- طیف عبور-FTO - Zno
نویسندگان
ناهید سمیعی نیا
دانشجوی کارشناسی ارشد فیزیک تهران، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکز
سلیمه کیمیاگر
استادیار. تهران، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکز، گروه فیزیک (استادیار)
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :