ورود
مقالات فارسیISIکنفرانسهاژورنالها

بررسی میکروساختار و خواص سطحی پوشش نانولوله اکسید تیتانیوم آندایز شده روی Ti-۳Cu

محل انتشار: فصلنامه علوم و مهندسی سطح ایران، دوره: 21، شماره: 64
سال انتشار: 1404
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 5

فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:
https://civilica.com/doc/2723652

شناسه ملی سند علمی:

JR_IJSSE-21-64_006

تاریخ نمایه سازی: 12 مهر 1405

چکیده مقاله:

در این پژوهش نانولوله های اکسید تیتانیوم روی زیرلایه Ti-۳Cu با استفاده از روش آندایز در دو ولتاژ ۲۰ و۴۰ ولت ایجاد شد. ریزساختار پوشش نانولوله های اکسید تیتانیوم و تاثیر آن بر آب دوستی سطح، همچنین حضور مس در پوشش و تاثیر آن بر خواص ضدباکتریایی سطح پوشش در اثر افزایش ولتاژ آندایز مورد بررسی قرار گرفت. بررسی ریز ساختار، آنالیز عنصری، آنالیز فازی به ترتیب با میکروسکوپ الکترونی(FESEM)، طیف سنجی توزیع انرژی (EDS) و پراش اشعه ایکس(XRD) انجام شد. نتایج نشان دادند نانولوله های اکسید تیتانیوم منظم، به هم فشرده و بصورت عمودی روی زیرلایه تشکیل شده اند. با افزایش ولتاژ آندایز قطر داخلی نانولوله ها افزایش محسوسی داشت که باعث کاهش محسوس زاویه ترشوندگی و افزایش آب دوستی سطح نانولوله های اکسید تیتانیوم شد. همچنین مس از زیرلایه به نانولوله های اکسید تیتانیوم مهاجرت کرد و با افزایش ولتاژ آندایز میزان مس در پوشش اکسید تیتانیوم بیشتر شد. در نتیجه خواص ضدباکتریایی پوشش افزایش یافت.

کلیدواژه ها:

نویسندگان

مرتضی مردانی کمالی

گروه مهندسی مواد ، دانشکده مهندسی، دانشگاه زنجان، زنجان، ایران.

علی اکبر قادی

گروه مهندسی مواد ، دانشکده مهندسی، دانشگاه زنجان، زنجان، ایران.

محسن قنبری حقیقی

گروه مهندسی مواد و متالورژی، دانشکده فنی، دانشگاه آزاد اسلامی واحد کرج، کرج، ایران.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • S. Minagar, C.C. Berndt, J. Wang, E. Ivanova, C. Wen, ...
  • C. Pan, T. Liu, Y. Yang, T. Liu, Z. Gong, ...
  • P. Osak, S. Skwarek, D. Łukowiec, G. Przeliorz, B. Łosiewicz, ...
  • A.K. Baranwal, G. Keerthiga, L. Mohan, S.D. Dutta, P. Gupta, ...
  • D. Regonini, C.R. Bowen, A. Jaroenworaluck, R. Stevens, A review ...
  • K. Indira, U.K. Mudali, T. Nishimura, N. Rajendran, A review ...
  • I.P. Torres-Avila, R.M. Souza, A. Chino-Ulloa, P.A. Ruiz-Trabolsi, R. Tadeo-Rosas, ...
  • T. Dikova, D.P. Hashim, N. Mintcheva, Morphology and structure of ...
  • L. Fanton, A. Cremasco, M.G. Mello, R. Caram, Anodization growth ...
  • E.-S. Kim, Y.-H. Jeong, H.-C. Choe, W.A. Brantley, Formation of ...
  • H. Tsuchiya, T. Akaki, J. Nakata, D. Terada, N. Tsuji, ...
  • D. Tang, Y. Wang, Y. Zhao, Y. Yang, L. Zhang, ...
  • M.G. Mello, M.O. Taipina, G. Rabelo, A. Cremasco, R. Caram, ...
  • P. Mahmoudi, M.R. Akbarpour, H.B. Lakeh, F. Jing, M.R. Hadidi, ...
  • Z. Liu, Y. Liu, S. Liu, D. Wang, J. Jin, ...
  • S. Cao, Z.-M. Zhang, J.-Q. Zhang, R.-X. Wang, X.-Y. Wang, ...
  • S. Liu, Z. Zhang, J. Zhang, G. Qin, E. Zhang, ...
  • Y. Xie, M. Lu, X. Mao, H. Yu, E. Zhang, ...
  • W. Zhang, S. Zhang, H. Liu, L. Ren, Q. Wang, ...
  • S. Durdu, S. Tosun, E. Yalcin, K. Cavusoglu, A. Altinkok, ...
  • T.M. David, P.R. Dev, P. Wilson, P. Sagayaraj, T. Mathews, ...
  • A. Jędrzejewska, K. Arkusz, Mechanism and growth kinetics of hexagonal ...
  • K. Arkusz, A. Jędrzejewska, P. Siwak, M. Jurczyk, Electrochemical and ...
  • T. Hoseinzadeh, Z. Ghorannevis, M. Ghoranneviss, A.H. Sari, M.K. Salem, ...
  • E. Isik, L.B. Tasyurek, I. Isik, N. Kilinc, Synthesis and ...
  • Y.V. Yuferov, I.D. Popov, F.M. Zykov, A.Y. Suntsov, I.V. Baklanova, ...
  • G. Liu, K. Du, K. Wang, Surface wettability of TiO۲ ...
  • M. Kulkarni, Y. Patil-Sen, I. Junkar, C.V. Kulkarni, M. Lorenzetti, ...
    • نمایش کامل مراجع