ترانزیستور اثر میدانی تونلی نانونوار گرافینی اصلاح شده برای کاربردهای توان پایین

سال انتشار: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 882

فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

INCEE01_010

تاریخ نمایه سازی: 25 تیر 1393

چکیده مقاله:

در این مقاله مشخصات ترانزیستور اثر میدانی تونلی مبتنی بر نانونوار گرافین مورد بررسی قرار خواهد گرفت و ساختار اصلاح شده ای به منظور کاهش جریان خاموشی معرفی می شود. در ساختار پیشنهادی به جای استفاده از یک ناحیه با چگالی بالا در سمت درین، از یک ناحیه با همان اندازه ولی کم چگال که چگالی آن به صورت خطی تا حالت ذاتی در سمت درین کاهش می یابد، استفاده شده است . لذا در سمت درین اتصال شاتکی و در سمت سورس اتصال از نوع اهمی است. مشخصات الکتریکی ساختار پیشنهادی با استفاده از روش تابع گرین غیرتعادلی (negf) و در فضای مد شبیه سازی و نتایج آن با ساختار تونلی متعارف و با همان ابعاد مقایسه شده است. نتایج حاصل از این مقایسه ها نشان می دهد که جریان خاموشی، رفتار Am-bipolar، نسبت ION/IOFF و همچنین زمان تاخیر و توان مصرفی که بیان کننده رفتار کلیدزنی می باشند، بسیار بهبود یافته است.

نویسندگان

سیده هدی طاهائی گیلان

گروه برق دانشگاه آزاد اسلامی واحد نور

رضا یوسفی

گروه برق دانشگاه آزاد اسلامی واحد نور

سیدصالح قریشی امپری

گروه برق دانشگاه آزاد اسلامی واحد نور

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Novoselov KS, Geim AK, Morozov SV, Jiang D, Zhang Y, ...
  • Berger C, Song Z, Li X, Wu X, Brown N, ...
  • Eazwa M. Peculiar widt dependence of the electronic properties of ...
  • Son YW, Cohen ML, Louie SG. Energy Gaps in Graphen ...
  • Yoon Y, Fiori G, Hong S, Iannaccone G and Guo ...
  • Zhao P, Chauhan J, Guo J. Computational Study of Tunneling ...
  • Yoon Y, Salahuddin S. Barrier-free tunneling in a carbon heterojunction ...
  • Yousefi R, Saghafi K, Moravvej -Farshi MK. Numerical Study of ...
  • Yousefi R, Ghoreyshi SS. Numerical Study of Ohmic- Schottky Carbon ...
  • Moghadam N, Moravvej -Farshi MK, Aziziyan M. R. Design and ...
  • source and drain regions. 53; 533-543, M icroelectronics Reliability 2013. ...
  • J. Guo, A. Javey, H. Dai, M. Lundstrom. Performance analysis ...
  • نمایش کامل مراجع