بهینه سازی تولید سیم های مسی صنعتی با پوشش گرافن

سال انتشار: 1404
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 70

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

MEECDSTS04_063

تاریخ نمایه سازی: 26 خرداد 1405

چکیده مقاله:

در این مقاله فرآیند پوشش دهی گرافن به صورت صنعتی (roll-to-roll (CVD)) روی سیم های مسی ولتاژ پایین تا ولتاژ متوسط بررسی می شود. نمونه های واقعی صنعتی شامل سیم های هادی تک رشته (solid) و مفتولی چندنخ (stranded) با مقاطع ۱.۲ mm۲، ۲.۵ mm۲ و ۱۰ mm۲ پوشش داده شده اند. داده های تجربی گزارش شده در مطالعات صنعتی نشان می دهد که پوشش گرافن می تواند رسانایی الکتریکی را بلافاصله تا حدود ۰.۷-۱٪ افزایش دهد و پس از پیری شتاب دهنده یا نگهداری بلندمدت تا ۳۱٪ بهبود نسبت به نمونه بدون پوشش را حفظ کند و به طور چشمگیری جلوی اکسیداسیون سطحی را بگیرد؛ این ویژگی به تولیدکنندگان اجازه می دهد تا با کاهش قطر (یا سطح مقطع) به صرفه جویی مواد مسی و هزینه ها برسند. همچنین پیاده سازی صنعتی فرآیند R۲R-CVD در مقیاس خط تولید در مطالعات نشان داده شده است.

کلیدواژه ها:

پوشش دهی گرافن ، سیم و کابل ، سیم مسی ، بهینه سازی تولید سیم

نویسندگان

شادی شیخ زاده مرند

دکترای گروه برق واحد کرج دانشگاه آزاد اسلامی، البرز، ایران