مطالعه فوتورسانایی و کاربرد فتالوسیانین مس (CuPc) در فوتورسپتورهای زیروگرافی آلی

سال انتشار: 1384
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,512

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IPC84_092

تاریخ نمایه سازی: 5 اسفند 1385

چکیده مقاله:

در این تحقیق خواص فوتورسانایی فتالوسیانین مس در فوتورسپتورهای زیروگرافی بررسی شده است . با تکنیک تبخیر فیزیکی در خلأ PVD ، فوتورسپتورهای تک لایه و دولایهای فتالوسیانین مس، تهیه شدهاند . سپس منحنیهای دشارژ تاریکی و روشنی لایههای تولید شده، رسم شدهاند . بوسیله منحنیهای دشارژ خواص فوتورسانایی فوتورسپتورهای تک لایه و دولایه مقایسه شده است

نویسندگان

مهدی میرابانها

آزمایشگاه لایه نازک، دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران

رسول اژئیان

آزمایشگاه لایه نازک، دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران

سعید مروری

آزمایشگاه لایه نازک، دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران

حمزه فولادوند

آزمایشگاه لایه نازک، دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران