ایجاد تماس اهمی فلزی با لایه های نازک اکسید ایندیم وقلع (ITO)

لایه های نازک اکسید ایندیم و قلع (ITO) با ضخامت 150 nm با استفاده از دستگاه باریکه الکترونی روی شیشه کوارتز لایه گذاری ش د . لایه گذاریها در دمای اتاق انجام شده و به منظور بهبود خواص، لایه ها در کوره خلا تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند . تغییرات خواص ساختاری، الکتریکی و نوری لایه ها با تغییر دمای کوره مورد بررسی قرار گرفته و مشاهده شد که در دمای 400 °C می توان به بیشترین درصد عبور و در عین حال کمترین مقاومت سطحی دست یافت . با استفاده از آنالیز XRD و SEM دیده شد که در این دما لایه ها دارای ساختار چند بلوری با بافت سطحی <111> شده و اندازه دانه های کریستالی در این جهت نیز 35-40 nm می باشد . سپس لا یه های فلزی Al( 320 nm ( و Cr( 30 nm به ترتیب روی لایه بهینهITO به روش باریکه الکترونی و در دمای 100 °C لایه گذاری شدند . تماس فلزی ایجاد شده دارای رفتار اهمی بوده و مقاومت آن بعد از گرمادهی در خلاء و دمای 250 °C به کمترین مقدار 40 µΩ-cm به توان 2رسید