Thermal Performance of Two-phase Loop Thermosiyphon under Different Filling Ratios and Heat Transfer Distances

سال انتشار: 1404
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 126

فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_JAFM-18-12_007

تاریخ نمایه سازی: 3 آبان 1404

چکیده مقاله:

To address the thermal challenges of electronic chips in an energy-efficient manner, this study proposes an optimized two-phase loop thermosiyphon (TPLT) system featuring a mini-channel evaporator, finned condenser, and flexible tubing. This design ensures reliable performance over extended distances while accommodating high heat fluxes and complex cooling scenarios. The effects of filling ratio and heat transfer distance on thermal performance were systematically investigated. Experiments were conducted under controlled ambient conditions of ۲۰℃ and ۴۰% relative humidity. To minimize radial heat losses and ensure measurement accuracy, a layered insulation system was implemented, consisting of alternating wraps of thermal insulation wool and plastic packaging. Results demonstrate that the thermosiyphon's performance is highly dependent on the filling ratio, with thermal resistance initially decreasing before rising as the filling ratio increases. Under high heating power conditions, the system achieved a remarkably low thermal resistance of ۰.۰۰۴ K/W. The maximum heat transfer capacity reached ۸۰۰ W, underscoring the system's robust performance. Notably, when the heat transfer distance was extended from ۳.۷ m to ۵.۷ m, thermal resistance increased only marginally, while the heat transfer limit decreased by a mere ۵۰ W, confirming the system’s exceptional suitability for long-distance heat dissipation. These findings offer significant insights for thermal management in advanced electronic devices, demonstrating the potential of the proposed TPLT design as an efficient and scalable cooling solutions for high-power applications.

نویسندگان

Y. Yang

Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai ۲۰۰۰۸۳, China

Y. Liu

Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai ۲۰۰۰۸۳, China

Z. Yan

Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai ۲۰۰۰۸۳, China

Z. Jiang

Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai ۲۰۰۰۸۳, China

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Adoni, A. A., Ambirajan, A., Jasvanth, V. S., Kumar, D., ...
  • Nakamura, K., Ueno, A., & Nagano, H. (۲۰۲۲). Experimental study ...
  • نمایش کامل مراجع