طراحی و بهینه سازی لایه ضد بازتاب مبتنی بر نانومواد دوبعدی گالیم سولفید و گالیم سلناید برای ارتقا کارایی سلول خورشیدی حوزه فضایی

تواند به شناسایی اتلافهای انرژی و توانایی کاهش آنها وابسته باشد. چندین روش برای از بین بردن اتلاف در کارایی تبدیل وجود دارد، از جمله مهمترین و کارآمدترین این روشها قرار دادن پوشش ضد بازتاب (ARC) در لایه بالایی سلول خورشیدی می باشد. بنابراین به منظور غلبه بر این نقص، یک پوشش ضد بازتاب (ARC) مسطح را بر روی سطح سلول قرار می دهند تا از اتلاف توان ورودی به دلیل بازتاب جلوگیری شود. بنابراین هدف ما محدود کردن اتلاف توان است پوششهای ضد بازتاب و بافت سطحی به طور مرسوم برای بهبود عملکرد سلولهای خورشیدی سیلیکون توده ای استفاده شده اند.

کلیدواژه ها:

سلول خورشیدی ، پوشش ضد بازتاب ، روش ماتریس مشخصه اپتیکی ، گالیم سولفید دو بعدی ، گالیم سلناید دو بعدی