تهیه و بررسی هتروپلی اسیدهای تنگستن نشانده شده بر روی اکسیدهای فلزی و نافلزی
محل انتشار: دومین همایش دانشجویی فناوری نانو
سال انتشار: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,114
فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NANOSC02_191
تاریخ نمایه سازی: 27 دی 1385
چکیده مقاله:
هترو پلی اسید داوسن (H6P2W18O62) بر روی بستر های آلومین تجای و سل – ژل نشانده شده و با BET , XRD , DSC, TGA, IR و SEM مورد بررسی قرار گرفت. هتروپلی اسید داوسن که به صورت خالص در دمای 350 درجه سانتی گراد تخریب می شود. بر روی بسترهای آلومین تا دمای 650 درجه سانتی گراد پایدار می ماند. BET , SEM نشان داد نانو حفره های الومین سل – ژل نسبت به آلومین تجاری یکنواخت تر و دارای مساحت سطح بالاتر است.
هتروپلی اسیدهای کگین (H2PW12O40) و پرایسلر (H14NaP5W30O110) بر روی بسترهای سیلیسی مزوپور، سیلیکاژل و فیوم سیلیکای عامل دار شده نشانده شد و با ICP , CHN, BET, L.A, XRD, DSC-TGA, IR بررسی شد. نتایج نشان داد که این هتروپلی اسیدها بر روی بسترهای عامل دار شده با (C2H5O), Si(CH2), NH2 به خوبی تثبیت شده اند. بیشترین درصدعامل آمین بر روی نانو حفره های مزوپور و بیشترین درصد هتروپلی اسید بر روی بستر فیوم سیلیکا قرار گرفت.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
علی اکبر طرلانی
دانشگاه تهران، پردیس علوم، دانشکده شیمی
مصطفی محمدپور امینی
دانشگاه شهید بهشتی، گروه شیمی
منصور عابدینی
دانشگاه تهران، پردیس علوم، دانشکده شیمی
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :