تخریب فتوکاتالیزوری عوامل شیمیایی فسفرداروگوگرددار درحضورنانودی اکسیدتیتانیم و مخلوط پلی اکسومتالات ها

اکسایش فتوکاتالیزوری ناهمگن و نورکافت برای رفع الودگی عوامل شیمیایی شامل بیس 2-کلرواتیل سولفید HD وo-اتیل s-2-دی ایزوپروپیل آمینواتیل متیل فسفونوتیولات vx درفاز الی و دردما و فشارمحیط درحضورنانودی اکسید تیتانیم TIO2 وپلی اکسومتالات ها و نورفرابنفش مورد مطالعه قرارگرفته و اثرعواملی همچون شدت نورمقدارنانوپودر نوع حلال و زمان تابش دهی برسرعت فرایند بررسی شد نتایج این بررسی نشان داد که 95درصد HD,VX درحضور150میلی گرم TIO2 درمدت زمان 90دقیقه تخریب میشود این درحالی است که تخریب کامل HD ازطریق نورکافت درمدت زمان 360 دقیقه صورت میگیرد ولی تحت شرایط مشابه 70درصد VX تخریب میشود محصولات شناسایی شده نشان داد که درفرایند نورکافت دوسازوکاراکسایش و واکنش حذفی اتفاق می افتد ولی درحضور TIO2 علاوه براکسایش و واکنش حذفی ابکافت نیز رخ میدهد این بررسی نشان داد که استفاده ازTIO2 قابلیت خوبی برای تخریب عوامل شیمیایی درحضورنورودردما فشارمحیط داردضمن اینکه افزایش پلی اکسومتالات ها تاثیرزیادی درکارایی تخریب فتوکاتالیزوری عوامل ایجادنمی کند

کلیدواژه ها:

نانوفتوکاتالیزور ، نورکافت ، رفع آلودگی ، عوامل فسفرداروگوگرددار