Preparation and Characterization of Colloidal Silica in Alkaline and Constant Range of pH

سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 154

فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_IJCCE-27-4_009

تاریخ نمایه سازی: 17 خرداد 1404

چکیده مقاله:

In this study, alkaline colloidal silica was prepared by titration of an alkaline solution such as sodium silicate with silicic acid in constant range of pH  .This constant range of pH was achieved by using concentrated soduim silicate solutions as pH adjusting solutions during titration.The sodium silicate solutions  having a variety of concentrations were passed  through ion-exchange resin to prepare the silicic acid solutions. Various effective  parameters on the method were investigated. In this research, the results show the mean particle size and surface area of prepared colloidal  silica are influenced by formation temperature, titration rate, silicic acid and alkaline solutions concentration. Low titration rate of slicic acid, high formation temperature and low concentration of silicic acid and alkaline solution would help the particle growth to form the larger particle size of colloidal silica.

نویسندگان

Asghar Karami

Inorganic Chemistry Research Group, Sharif Institute of Technology, P.O. Box: ۱۳۴۴۵-۶۸۶ Tehran, I.R. IRAN

Gholam Reza Vahdany

Inorganic Chemistry Research Group, Sharif Institute of Technology, P.O. Box: ۱۳۴۴۵-۶۸۶ Tehran, I.R. IRAN

Mohammad Abedi

Inorganic Chemistry Research Group, Sharif Institute of Technology, P.O. Box: ۱۳۴۴۵-۶۸۶ Tehran, I.R. IRAN

Mehdi Fattahi

Inorganic Chemistry Research Group, Sharif Institute of Technology, P.O. Box: ۱۳۴۴۵-۶۸۶ Tehran, I.R. IRAN

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Keiser., B.A., US Patent ۶,۳۷۲,۸۰۶ (۲۰۰۲) ...
  • lin, C.F., et al., Thin Solid Films, ۳۴۷, ۲۴۸ (۱۹۹۹) ...
  • Graham., T.J., Chem. Soc. London, ۱۷, ۳۱۸ (۱۸۶۴) ...
  • Sanchez., M.G., Canadian Patent ۵۸۶۲۶۱ (۱۹۵۹) ...
  • Alexander, G.B. and Mewhrter, J.R., US Patent ۲, ۶۰۱, ۲۳۵ ...
  • Alexander, G.B., US Patent ۲ ,۷۵۰, ۳۴۵ (۱۹۴۱) ...
  • Bird, P.G., US patent ۲, ۲۴۴, ۳۹۵ (۱۹۴۱) ...
  • Iler, R.K., “The Chemistry of Silica”, First Ed.,John Wiley & ...
  • liu, H.C., Wany, J.X., Mao, Y., Chen., R.S., Colloid and ...
  • Khaehatryan, H.G., Hayrapetyan, S.S., Micro. Meso. Mater., ۷۸, ۱۵۱ (۲۰۰۴) ...
  • Tsai., M.S., Mater. Sci. Eng. B, ۱۰۴, ۶۳ (۲۰۰۳) ...
  • Tsai., M.S., Mater. Sci. Eng. B, ۱۰۶, ۵۲ (۲۰۰۴) ...
  • Tsai, M. S., Yang, C. H., Huang, P. Y, Mater. ...
  • Tsai, M.S., Huang, P.g., Wu,W.C., Mater. Res. Bul, ۴۰, ۱۶۰۹ ...
  • Sears, G.W., Anal. Chem., ۲۸, ۱۹۸۱ (۱۹۵۶) ...
  • “Annual Book of ASTM Standards”, D۵۰۱-۸۹ (۱۹۹۱) ...
  • نمایش کامل مراجع