بهینه سازی پارامترهای موثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن

با توجه به مشکل ساز بودن دفع مستقیم پساب دارای آنتی بیوتیک ها به محیط زیست و بروز مشکل های جدی در محیط همانند مقاومت ژنتیکی، تصفیه پساب این صنایع از اهمیت ویژه ای برخوردار است. در این پژوهش افزون بر بررسی تصفیه پذیری یکی از پرمصرف ترین آنتی بیوتیک ها، اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن، قابلیت اکسایش و فتوکاتالیستی لایه آهن اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره های آهن نیز بررسی شد. ابتدا پارامترهای موثر در حذف اکسی تتراسایکلین توسط فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری بررسی و بهینه شدند که طبق نتیجه های به دست آمده در شرایط بهینه، از نانو ذره های آهن با غلظت mg/L ۱۰۰۰ برای حذف mg/L ۱۵۵ اکسی تتراسایکلین در pH برابر ۳، تابش UV با توان W ۲۰۰ در مدت زمان ۵/۶ ساعت استفاده شد که مقدارهای حذف در طول موج های ۲۹۰ و ۳۴۸ نانومتر، TOC و COD به ترتیب ۸۷، ۹۵، ۸۵ و ۸۹ درصد به دست آمدند. پس از گذشت ۱۴ ساعت، میزان همه این پارامترها بیانگر تجزیه کامل اکسی تتراسایکلین بود. همچنین طبقنتیجه آنالیز XRD ، FeO و FeOOH ، لایه اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره ها شناسایی شده و اثرهای مثبت فتوکاتالیستی آن در فرایند حذف توسط آزمایش های شاهد مورد بررسی قرار گرفت. بررسی اثر جداگانه هوادهی، پرتودهی فرابنفش و اکسایش توسط نانو ذره ه ای آهن در تاریکی و مقایسه نتیجه ها با شرایط تلفیقی (نانو ذره های آهن در مجاورت تابش فرابنفش) نشان دهنده ی برتری فرایند تلفیقی در فرایند حذف بود.

کلیدواژه ها:

اکسی تتراسایکلین ، اکسایش نوری ، نانو ذره های آهن ، طول موج بیشینه