بررسی اثر غلظت تیتانیوم دی اکسید و هیدروژن پراکسید بر روی بازده حذف فتوکاتالیستی ۲- نیتروفنول

در این پژوهش، اثر متقابل فتوکاتالیست و هیدروژن پراکسید در تابش طبیعی خورشید، در تجزیه آلاینده ی صنعتی  ۲-نیتروفنول بررسی شد. برای این منظور، از نانو فتوکاتالیستTiO۲   (P۲۵) استفاده شد و اثر پارامترهای گوناگونی شامل غلظت  نانو فتوکاتالیست، غلظت هیدروژن پراکسید و استفاده ‎ی همزمان از فتوکاتالیست و هیدروژن پراکسید بر روی درصد حذف  مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفت. نتیجه­ ها نشان داد، نقطه ی بهینه ی غلظت نانو فتوکاتالیست و هیدرون پراکسید، زمانی که هر یک به تنهایی برای حذف ۲-نیتروفنول مورد استفاده قرار گیرند،  به ترتیب ۱۰۰۰ میلی گرم بر لیتر و ۲۰۰ میلی مولار است. همچنین مشخص شد، در واکنش های حذف خورشیدی آلاینده ۲-نیتروفنول نرخ حذف توسط هیدروژن پراکسید به تنهایی می تواند بیش­تر از این نرخ توسط P۲۵  باشد. از  سوی دیگر، استفاده ی همزمان از این دو ماده در بهبود بازده ی حذف آلاینده موثر بوده و موجب کاهش غلظت بهینه ی (موردنیاز از) آن­ ها می ‎شود. با این حال، غلظت های بالای هیدروژن پراکسید، به دلیل وجود اثر مخرب مقدار اضافی آن، باعث کاهش بازده می ­شود. در حالت بهینه نهایی، غلظت  P۲۵ و هیدروژن پراکسید، به ترتیب ۷۵۰ میلی گرم بر لیتر و ۱۵۰ میلی مولار به دست آمد و در این نقطه، درصد حذف ۲-نیتروفنول، پس از تنها یک ساعت تابش نور خورشید، به ۹۵ درصد رسید.

کلیدواژه ها:

۲-نیتروفنول ، حذف خورشیدی ، نانوفتوکاتالیست ، هیدروژن پراکسید ، اثر متقابل