تأثیر پخت حرارتی بر مقاومت الکتریکی وساختار فیزیکی لایه های شبه الماس کربنی با نفوذ مس ساخته شده به روش RF-PECVD

سال انتشار: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 3,151

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IPC86_251

تاریخ نمایه سازی: 20 دی 1385

چکیده مقاله:

برای ساخت لایه های نازک کربن شبه الماس بی ریخت با ناخالصی فلز از روش انباشت از فاز بخار شیمیایی با استفاده از پلاسمای ناشی از امواج رادیویی (RF ) و وارد کردن گاز استیلن استفاده کردیم . بدین ترتیب لایه های نازک کربن – مس را (Cu-DLC ) بر روی زیر لایه ی سیلیکن و شیشه رشد دادیم . پس از ساخت، لایه هادر دماهای متفاوت وزمان ثابت در حضور گاز آرگون با فشار اتمسفر باز پخت شدند . سپس به کمک طیف سنجی امواج ایکس (XRD) ، پس پراکندگی راترفورد (RBS) ، AFM و مقاومت سنجی ) ) four probe قبل و بعد از پخت ب ررسی شدند . مشاهده شد که با تغییرفشار اولیه می توان لایه هایی با مقاومت الکتریکی متفاوت داشت، با افزایش دما در باز پخت نمونه ها، ضخامت، مقاومت الکتریکی و زبری سطح کاهش می یابد . در ضمن افزایش دما تا حدی باعث رشد نانو دانه های مس می گردد .

نویسندگان

زهرا مبینی

گروه فیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات تهران

طیبه قدس الهی

دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران، م رکز تحقیقات فیزیک نظری و ری

عزیزاله شفیع خانی

گروه فیزیک، دانشگاه الزهرا، تهران ،مرکز تحقیقات فیزیک نظری و ریاضیات

محمدعلی ساقی

دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران، م رکز تحقیقات فیزیک نظری و ری