Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
ناشر تخصصی کنفرانسهای ایران
ورود |عضویت رایگان |راهنمای سایت |عضویت کتابخانه ها
عنوان
مقاله

تأثیر پخت حرارتی بر مقاومت الکتریکی وساختار فیزیکی لایه های شبه الماس کربنی با نفوذ مس ساخته شده به روش RF-PECVD

تأثیر پخت حرارتی بر مقاومت الکتریکی وساختار فیزیکی لایه های شبه الماس کربنی با نفوذ مس  ساخته شده به روش RF-PECVD
سال انتشار: 1386
کد COI مقاله: IPC86_251
زبان مقاله: فارسیمشاهده این مقاله: 2,946
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

خرید و دانلود فایل مقاله

متن کامل (فول تکست) این مقاله منتشر نشده و یا در سایت موجود نیست و امکان خرید آن فراهم نمی باشد.

مشخصات نویسندگان مقاله تأثیر پخت حرارتی بر مقاومت الکتریکی وساختار فیزیکی لایه های شبه الماس کربنی با نفوذ مس ساخته شده به روش RF-PECVD

زهرا مبینی - گروه فیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات تهران
طیبه قدس الهی - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران، م رکز تحقیقات فیزیک نظری و ری
عزیزاله شفیع خانی - گروه فیزیک، دانشگاه الزهرا، تهران ،مرکز تحقیقات فیزیک نظری و ریاضیات
محمدعلی ساقی - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، تهران، م رکز تحقیقات فیزیک نظری و ری

چکیده مقاله:

برای ساخت لایه های نازک کربن شبه الماس بی ریخت با ناخالصی فلز از روش انباشت از فاز بخار شیمیایی با استفاده از پلاسمای ناشی از امواج رادیویی (RF ) و وارد کردن گاز استیلن استفاده کردیم . بدین ترتیب لایه های نازک کربن – مس را (Cu-DLC ) بر روی زیر لایه ی سیلیکن و شیشه رشد دادیم . پس از ساخت، لایه هادر دماهای متفاوت وزمان ثابت در حضور گاز آرگون با فشار اتمسفر باز پخت شدند . سپس به کمک طیف سنجی امواج ایکس (XRD) ، پس پراکندگی راترفورد (RBS) ، AFM و مقاومت سنجی ) ) four probe قبل و بعد از پخت ب ررسی شدند . مشاهده شد که با تغییرفشار اولیه می توان لایه هایی با مقاومت الکتریکی متفاوت داشت، با افزایش دما در باز پخت نمونه ها، ضخامت، مقاومت الکتریکی و زبری سطح کاهش می یابد . در ضمن افزایش دما تا حدی باعث رشد نانو دانه های مس می گردد .

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

کد یکتای اختصاصی (COI) این مقاله در پایگاه سیویلیکا IPC86_251 میباشد و برای لینک دهی به این مقاله می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:

https://civilica.com/doc/22560/

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
مبینی، زهرا و قدس الهی، طیبه و شفیع خانی، عزیزاله و ساقی، محمدعلی،1386،تأثیر پخت حرارتی بر مقاومت الکتریکی وساختار فیزیکی لایه های شبه الماس کربنی با نفوذ مس ساخته شده به روش RF-PECVD،کنفرانس فیزیک ایران 1386،یاسوج،https://civilica.com/doc/22560

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (1386، مبینی، زهرا؛ طیبه قدس الهی و عزیزاله شفیع خانی و محمدعلی ساقی)
برای بار دوم به بعد: (1386، مبینی؛ قدس الهی و شفیع خانی و ساقی)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مدیریت اطلاعات پژوهشی

صدور گواهی نمایه سازی | گزارش اشکال مقاله | من نویسنده این مقاله هستم

اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

علم سنجی و رتبه بندی مقاله

مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
نوع مرکز: دانشگاه آزاد
تعداد مقالات: 37,210
در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

مقالات پیشنهادی مرتبط

مقالات مرتبط جدید

به اشتراک گذاری این صفحه

اطلاعات بیشتر درباره COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.

پشتیبانی