رویکرد های نوین پرداخت سطح در مقیاس نانومتری و اتمی

این مقاله به بررسی رویکردهای پولیش در مقیاس اتمی و نزدیک به اتمی می پردازد و روش های مختلفی از جمله پولیش مکانیکی شیمیایی (CMP)، پولیش به کمک پالسما (PAP)، وروش های بدون تغییر شیمیایی مانند ماشینکاری انتشار الستیک (EEM) را معرفی می کند. این روش ها بر مبنای کاهش زبری سطح تا زیر نانومتر و حتی مقیاس آنگستروم طراحی شده اند. کاربرد های صنعتی شامل بهبود کیفیت سطح در صنایع نوری، الکترونیک و اپتیک است. همچنین چالش هایی مانند هزینه بالا، بهینه سازی فرآیندها و محدودیت در پردازش سطوح پیچیده نیز مورد بحث قرار گرفته اند. آینده این فن آوری ها به بهبود تعادل میان کارایی، دقت و هزینه وابسته است.

کلیدواژه ها:

پولیش ، زبری ، زیر نانومتر ، سایش مکانیکی