تاثیرآنیل سریع حرارتی برخواص ساختاری ومغناطیسی لایه نازک نانوساختار FePt

لایه های نازک FePt بطور روزافزونی درصنایع مختلف ازجمله حافظه های مغناطیسی مورداستفاده قرامیگیرند این لایه ها به روش کندوپاش که دمای مختلف رسوبدهی دمای میحط بود روی زیرلایه شیشه ای رسوب داده شدند پس ازتهیه نمونه ها درمحدوده 575-675 درجه به مدت 20ثانیه انیل سریع حرارتی شدند با انیل لایه نازک دردمای 600درجه فاز fePt باشبکه منظم L10 تشکیل شد همچنین نتایج AFM,SEM نشان داد که با افزایش دمای انیل افزایش اندازه دانه زبری سطح قابل توجه نمی باشد خواص مغناطیسی لایه های نازک توسط رسم منحنی های پسماندارزیابی شدبا انیل لایه های نازک FePt دردمای 600درجه به دلیل افزایش پارامترنظم فازفرومغناطیس سخت تشکیل شده و درنتیجه نیروی پسماندزدا افزایش یافته و بهترین خواص ساختاری ومغناطیسی برای حافظه های مغناطیسی حاصل شد

کلیدواژه ها:

حافظه های مغناطیسی ، لایه های نازک ، فرومغناطیس سخت ، آهن پلاتیک ، نیروی پسماندزدا