بررسی اثرات ولتاژ بایاس بر ترکیب شیمیایی، ریزساختار و خواص مکانیکی پوشش نانوساختار TiAlN

سال انتشار: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,150

فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IMES07_123

تاریخ نمایه سازی: 28 آذر 1392

چکیده مقاله:

هدف از این مقاله، بررسی اثرات ولتاژ بایاس بر ریزساختار و ساختار بلوری پوشش نانوساختار نیترید تیتانیم-آلومینیوم TiAlN( اعمال شده به روش کندوپاش مغناطیسی با توان بالای برانگیختگیHIPIMS(و بررسی ارتباط آن با خواص مکانیکی پوشش میباشد. برای این منظور از ماده هدفwt%( Ti-AlTi:Al =33:33و زیرلایهSi111و فولاد ضدزنگ 304 استفاده شد. فرایند لایهنشانی در دمای 333 درجه سانتیگراد، فشار 5 میلیتور و نسبت گازهای Ar:N2به ترتیب 2:1 انجام شد. برای مطالعه اثر ولتاژ بایاس، چهار پوششTiAlNمختلف در ولتاژهای بایاس 53 100و 153 و 233 ولت اعمال شد. برای مشخصهیابی و ارزیابی خواص مکانیکی پوششهای نانوساختارTiAlNاز دستگاه پراش پرتو ایکسXRD(میکروآنالیزگر الکترونی پروبیEPMA( میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدان FE-SEMدستگاه نانودندانهگذاریNano-Indentation و دستگاه لیزری اندازهگیری تنش پسماند، بهره گرفته شد. نتایج دلالت میکند که با افزایش ولتاژ بایاس، ترکیب شیمیایی پوشش دچار تغییر شده که احتمالا بهدلیل پدیده کندوپاش ثانویه بر روی سطح میباشد بنابراین با افزایش ولتاژ بایاس خواص مکانیکی پوشش از جمله سختی، مدول یانگ و شاخص مقاومت در برابر تغییر شکل پلاستیک ) 2)H3/E* تغییر میکند و حداکثر میزان آن در ولتاژ بایاس منفی 153 ولت بدست آمد

کلیدواژه ها:

پوشش نانوساختارTiAlN/روشHIPIMS /ولتاژ بایاس ، ریزساختار ، خواص مکانیکی

نویسندگان

حسن علم خواه

دانشجوی دکترای نانومواد بخش مهندسی مواد دانشکده فنی و مهندسی دانشگاه تربیت مدرس

فرزاد محبوبی

دانشیار دانشکده معدن و متالورژی دانشگاه صنعتی امیرکبیر

امیر عبداله زاده

استاد بخش مهندسی مواد دانشگاه تربیت مدرس

کوانگ هوکیم

استاد دپارتمان مهندسی و علم مواد، دانشگاه ملی پوسان، کره جنوبی

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • . C.W. Kim, K.H. Kim, Anti-oxidation properties of TiAIN film ...
  • . Seog-Young Yoon, Kwang O Lee, Sung Soo Kang, Kwang ...
  • . KazukiKawata, Hiroyuki Sugimura, Osamu Takai, C haracterization of (Ti, ...
  • . J.H Hsieh, C Liang, C.H Yu, W Wu, Deposition ...
  • . G. Greczynski, J. Lu, M.P. Johansson, J. Jensen, I. ...
  • . KiyotakaWasa, IsakaKanno, Hidetoshi Kotera, Handbook of Sputter Deposition Technology, ...
  • . B.F. Coll, R. Fontana, A. Gates, P. Sathrum, (Ti- ...
  • . D.M. Devia, E. Restrepo-Parra, P.J. Arango, A.P. Tschiptschin, J.M. ...
  • . A. Leyland, A. Matthews, On the significance of the ...
  • . Tao Zhou, PulinNie, XunCai, Paul K. Chu, Influence of ...
  • Chattopadhyay, S. Paul, Effect of substrate bias voltage on structural ...
  • . K. Chu, P.W. Shum, Y.G. Shen, Substrate bias effects ...
  • نمایش کامل مراجع