بررسی تاثیردواکسیدفلز ZrO2 و 2 HfO باثابت دی الکتریک بالا بر کارکرد نانوخازن های فلز - عایق - فلزMIM Nano Capacitors
محل انتشار: پنجمین کنفرانس ملی مهندسی برق و الکترونیک ایران
سال انتشار: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 944
فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICEEE05_106
تاریخ نمایه سازی: 3 آذر 1392
چکیده مقاله:
دراین مقاله به بررسی دونوع ازخازنهای فلز - عایق - فلز که درابعاد نانومتری پیاده سازی شده اند پرداخته شده است درخازنهای بکارگرفته شده لایه های عایق بین دو الکترود خازن متفاوت درنظر گرفته شده است دریکی هافنیوم دی اکسید و زیرکنیوم دی اکسید بصورت ترکیبی ازلایه های عایق به همراه سیلیکون دی اکسید لایه عایق بین دو الکترود راتشکیل میدهند و دردگیری باریم اکسید به همراه هافنیوم دی اکسید و سیلیکون دی اکسید بصورت لایه های روی هم نقش لایه عایق را به عهده دارند با اعمال ولتاژ متغیر از-3تا+3 ولت درنرم افزارNextNano3 عملکرد الکترون و حفره و درنهایت رفتار جریان خازن ها بررسی شده است بامقایسه رفتاراین دونوع خازن مشاهده شده که با انتخاب مناسب اکسیدهای موادمختلف میتوان جریان نشتی این خازن ها را به حداقل رساند
کلیدواژه ها:
نویسندگان
حسین موحدی علی آباد
دانشجوی کارشناسی ارشدبرق الکترونیک
مجید شکری
دانشجوی کارشناسی ارشدبرق الکترونیک
رامین وقارموسوی
دانشجوی کارشناسی ارشدبرق الکترونیک
محمدحسین غلامیان
دانشجوی کارشناسی ارشدبرق الکترونیک
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :