بررسی اچینگ شیمیایی در شیشه کوارتز

در این پژوهش اثر اچینگ شیمیایی با استفاده از محلول NH۴HF۲ بر روی شیشه های کوارتزی با غلظت های ۱،۲ و ۳ مولار مورد بررسی قرار گرفته است. اثر اچینگ شیمیایی بر روی حذف قله ها و ناهمواری های شیشه کوارتزی به منظور بررسی نحوه اثرگذاری آن بر روی فاکتور کیفیت با استفاده از ارزیابی سطحی مورد بررسی قرار گرفت. سپس به منظور بررسی اثر گذاری اچینگ بر روی خواص الکترومغناطیسی از آزمون VNA استفاده شده است. در انتها مشخص شده است که نمونه ۲ مولار دارای کمترین زبری سطح و بالاترین فاکتور کیفیت را محیا می کند.

کلیدواژه ها:

اچ شیمیایی ، شیشه سیلیس ، میکروسکوپ نوری ، مورفولوژی