بررسی نقش تیواوره موجود در محلول الکترولیت برروی رفتار پسیو شدن آندهای مسی طی فرآیند پالایش الکتریکی مجتمع مس سرچشمه

افزودنی هایی مانند تیواوره ، گلووکلرایداغلب بمنظورکنترل ساختارومورفولوژی رسوب مس برروی سطح کاتد، طی فرآیندپالایش الکتریکی به محلول الکترولیت اضافه می شوند . مطالعات اندکی درخصوص بررسی نقش این افزودنیها روی رفتارپسیوشدن آندهای مسی انجام شده است . درتحقیق حاضر با استفاده از تست های گالوانواستاتیک اثراین ماده افزودنی برروی رفتارپسیوشدن آندهای تجاری وهمچنین مس خالص کاتدی درحضورالکترولیتهای صنعتی وساختگی ، حاوی غلظت های متفاوتی ازتیواوره بررسی وغلظت بهینه وبحرانی این ماده افزودنی درجهت ایجادشرایط بهینه فرآیند پالایش الکتریکی تعیین گردید . نتایج حاصل نشان میدهد که باافزایش غلظت تیواوره تارسیدن به یک حدبحرانی مدت زمان لازم برای رسیدن به شرایط پسیوشدن tp افزایش وپس ازآن کاهش پیدا میکند