بررسی تاثیر پارامترهای تف جوشی و CuO بر قابلیت تف جوشی (SnO(۲

فناوری آند خنثی به واسطه پتانسیل های چشمگیر آن در صنایع آلومینیوم، به عنوان یک گزینه ی امیدبخش برای جایگزینی آندهایکربنی در فرایند هال-هرولت مطرح شده است. (SnO(۲ با برخورداری از هدایت الکتریکی مناسب و حلالیت اندک. به عنوان یکی ازگزینه های برتر برای ساخت آندهای بی اثر شناخته می شود. در پژوهش حاضر رفتار تف جوشی (SnO(۲ مورد بررسی قرار گرفت.بدین منظور نمونه هایی به شکل قرص از ترکیب (SnO(۲ و CuO تهیه و در دمایی بین ‎۹۰۰ تا ۱۲۰۰ درجه سانتی گراد تحتفرآیند تف جوشی قرار گرفتند. نتایج نشان داد که نمونه های فاقد CuO، حتی در دماهای بالای تف جوشی نیز به چگالی مطلوبنرسیدند. با این حال با افزایش دماء چگالی نمونه ها تا دمای مشخصی برای هر ترکیب خاص از CuO افزایش یافت و پس از آنکاهش یافت. بیشترین چگالی در دمای ۱۰۰۰ درجه سانتیگراد و با افزودن یک درصد وزنی CuO به دست آمد. افزایش مقدارCuO به بیش از یک درصد. منجر به کاهش چگالی شده و CuO به صورت فاز ثانویه در ساختار باقی ماند.

کلیدواژه ها:

تف جوشی ، چگالی ، دی ا کسید قلع ، دوپنت و تخلخل