بررسی تاثیر ترکیب شیمیائی آندهای ریختگی مس برروی رفتار پسیو شدن در طی فرآیند پالایش الکتریکی مجتمع مس سرچشمه
محل انتشار: نهمین کنگره سالانه انجمن مهندسین متالورژی ایران
سال انتشار: 1384
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,582
فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
CIMS09_039
تاریخ نمایه سازی: 17 آذر 1385
چکیده مقاله:
پسیو شدن مس یکی از مه م ترین پدیـده هـا در فرآینـد پـالایش الکتریکـی مـس میباشـد . بـدلیل ماهیـت الکتروشیمیائی فرآیند پالایش، روشهای مختلف الکتروشیمیائی جهت مطالعـة رفتـار پسـیو شـدن آنـدهای مسی مورد استفاده قرار گرفته است . در تحقیق حاضر از تست گالوانواستاتیک ( کرونوپتانسیومتری ) بـرای بررسی رفتار پسـیو شـدن نمونـه هـای آنـد تجـارتی و همچنـین مـس خـالص کاتـدی در حضـور محلـول الکترولیت صنعتی کمک گرفته شد . بر طبق نتایج حاصل یک مدل دولایه ای شامل یـک لایـه بـا ماهیـت الکتروشیمیائی ( فیلم پسیو ) و یک لایه با جذب فیزیکی ( لایة لجـن ) بـرروی سـطح مشـاهده گردیـد . بـرای رسیدن به را بطه ای میان مورفولوژی لایه های سطحی و رفتار پسیو شدن، آنالیزهای SEM و EDS یکبار در حضور لایة لجن و بار دیگر پـس از حـذف آن مـورد اسـتفاده قـرار گرفـت . نتـایج حاصـل نشـان دهنـدة حساسیت بالای تست گالوانواستاتیک در نشان دادن زمان پسیو شـدن ) ) tp بـوده و دربرگیرنـدة چهارناحیـ1- انحلال فعال 2-مرحله قبل از پسیو شدن3- شـروع فرآینـد پسـیو شـدن و4- پسـیو شـدن کامـل بـرای نمونه های تجارتی و تنها ناحیه انحلال فعال برای مس خالص تحت شرایط آزمایش میباشد .
کلیدواژه ها:
نویسندگان
عبدالحمید جعفری
استادیار بخش مهندسی متالورژی، دانشگاه شهید باهنر کرمان
امیر صرافی
استادیار بخش مهندسی متالورژی، دانشگاه شهید باهنر کرمان
علی صارمی
دانشجوی کارشناسی ارشد بخش مهندسی متالورژی، دانشگاه شهید باهنر کرمان
مسعود حسنخانی
دانشجوی کارشناسی ارشد بخش مهندسی متالورژی، دانشگاه شهید باهنر کرمان