نقش رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار (CVD) در نانو شیمی

روش رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار Chemical Vapor Deposition, CVD به دلیل ویژگی های منحصربه فردخود، به عنوان روشی کاربردی در تولید طیف وسیعی از قطعات سرامیکی و نیم هرسانا در فن آوری نانو شناخته می شود.همچنین از این روش برای پوشش دهی سطوح مختلف با هدف بهبود مقاومت به خوردگی، سایش، اکسیداسیون، تنش هایحرارتی و نیز ارتقاء خواص مکانیکی آنها استفاده می شود. روش رسوب شیمیایی فاز بخار مستلزم رسوبگ ذاری ماده یشامل نانوذرات از فاز گازی است. ماده آنقدر گرم می شود تا به صورت گاز درآید و سپس به صورت یک ماده جامد بر رویسطح، معمولا تحت خلا رسوب گذاری می گردد. ممکن است رسوب گذاری مستقیم یا رسوب گذاری از طریق واکنش شیمیایی،محصول تازه ای را به وجود آورد که با مادهی تبخیر شده تفاوت زیادی داشته باشد

کلیدواژه ها:

نانو ، رسوب دهی ، شیمیایی ، نیمه رسانا