طراحی وشبیه سازی ترانزیستور و ماسفت دو گیتی و بدست آوردن پارامترهای الکتریکی آن

سال انتشار: 1403
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 149

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICNRTEE02_009

تاریخ نمایه سازی: 4 مهر 1403

چکیده مقاله:

ترانزیستور اثر میدانی حساس به یون ISFET ، یک حسگر شیمیایی متداول می باشد. وابستگی لگاریتمی بین بار حاضر در سطح الکترولیت عایق و بار منتقل شده به بازتاب آینه ای در کانال هدایت، حساسیت ISEET ترانزیستور ایده آل معمولی را محدود می سازد که به عنوان حد ترنستین Nernstian limit نیز شناخته می شود. به عبارت دیگر در ترانزیستورهای ISFET ایده آل معمولی، در اثر شارش صفحه ای حساسیت سنوسر به طور قابل توجهی کاهش می یابد. استفاده از اثر دو گیتی بر فناوری سیلیکون روی عایق SOI موجب بهبود حساسیت ISFET می گردد. در این مقاله، یک SOI MOSFET دو گیتی با استفاده از ابزار TCAD SILVACO شبیه سازی شده است. مشاهده شده است. که با اعمال یک پتانسیل به گیت پشتی، می توان ولتاژ استانه و جریان درین ترانزیستور را کنترل نمود.

کلیدواژه ها:

ترانزیستور اثر میدانی حساس به یون ، فناوری سیلکون روی عایق

نویسندگان

زهرا بیات

دانشگاه رازی دانشکده برق و کامپیوتر

مزدک رادملکشاهی

دانشگاه رازی دانشکده برق و کامپیوتر

علی دارابی

دانشگاه رازی دانشکده برق و کامپیوتر