مروری بر روش های لایه نشانی و خواص لایه های نازک نیترید تانتالوم

سال انتشار: 1402
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 113

فایل این مقاله در 22 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_IJCSE-12-2_002

تاریخ نمایه سازی: 22 فروردین 1403

چکیده مقاله:

نیترید تانتالوم   (TaN)  به دلیل خواص منحصر به فردی مانند سختی بالا و مقاومت بالا در برابر سایش و همچنین مقاومت الکتریکی پایدار، در صنایع مکانیکی و میکروالکترونیک به طور گسترده استفاده می­ شود. نظر به اهمیت موضوع، در مقاله حاضر، با در نظر گرفتن مراجع معتبر، بررسی جامعی از پیشرفت های تحقیقاتی در زمینه روش های لایه ­نشانی، روش های مشخصه­ یابی، خواص و کاربردهای لایه های نازک نیترید تانتالوم به عمل آمده است. به این منظور، ابتدا  تولید و لایه­ نشانی این لایه ­های نازک  توسط روش هایی مانند رسوب دهی فیزیکی (PVD)، کندوپاش مگنترون RF پالسی و فرکانس رادیوییDC مورد مطالعه قرار گرفته اند. همچنین در ادامه، خواص ساختاری، میکروسکوپی، الکتریکی، اپتیکی، مکانیکی و تریبولوژیکی لایه­ های نازک نیترید تانتالوم به طور جامع مورد بحث قرار گرفته ­اند. به این منظور از تحلیل الگوهای پراش پرتو ایکس، میکروسکوپ نیروی اتمی، میکروسکوپ الکترون روبشی، محاسبه نرخ سایش لایه­ ها، تاثیر تغییر محتوای نیتروژن ولتاژ بایاس بستر بر روی تنش پسماند لایه ها، تغییر سختی و  مدول الاستیک لایه های نیترید تانتالوم با نسبت جریان نیتروژن، ضریب شکست و ضریب خاموشی لایه ها، طیف عبور اپتیکی لایه­ ها،  مقاومت الکتریکی لایه در جریان نیتروژن مختلف، مقاومت سطحی نرمال شده برحسب دما و تغییرات مقاومت سطحی لایه های نگه داشته شده در  دماهای مختلف به تفصیل مورد بررسی قرار گرفته است.  نتایج بررسی شده نشان می­ دهد که لایه های نازک تولید شده مذکور، پتانسیل بالایی برای کاربرد در زمینه­ های مختلف به­ خصوص در محیط­ های سخت با دما و فشار بالا دارند. این مقاله مروری، می­ تواند مرجعی مناسب و جامع برای پژوهش ­هایی باشد که در زمینه لایه های نازک نیترید تانتالوم و فناوری های مرتبط با آن انجام خواهد شد. این مطالعه بینش های ارزشمندی را در مورد بهینه سازی پارامترهای کندوپاش برای تولید لایه های نازک نیترید تانتالوم با کیفیت بالا بر روی بسترهای مسی ارائه می دهد. یافته ها نشان می دهد که دمای زیرلایه یک پارامتر حیاتی است که برای دست یابی به خواص ساختاری و مورفولوژیکی مطلوب لایه های نازک نیترید تانتالوم باید به دقت کنترل شود.

نویسندگان

امیر هوشنگ رمضانی

Department Of Physics ,West Tehran Branch , Islamic Azad University

امیر حسین ساری

۲Department Of Physics ,Science and Research Branch,Islamic Azad University,Tehran-Iran

رشا سعد یوسف کریزی

۲Department Of Physics ,Science and Research Branch,Islamic Azad University,Tehran-Iran

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Liu, X., et al., Effect of deposition and annealing temperature ...
  • Wang, Hao, et al. "Transition metal nitrides for electrochemical energy ...
  • Nurlaela, Ela, Ahmed Ziani, and Kazuhiro Takanabe. "Tantalum nitride for ...
  • D. Bernoulli, U. Müller, M. Schwarzenberger, R. Hauert, R. Spolenak, ...
  • Firouzabadi, S. S., et al. "Effect of nitrogen flow ratio ...
  • Demirskyi, D., O. Vasylkiv, and K. Yoshimi. "Allotropic strengthening and ...
  • Ik-Soo Kim, Myung-Yeon Cho, Dong-Won Lee, Pil-Ju Ko, Weon Ho ...
  • Md Maidul Islam and Daniel G. Georgiev, "Reactive sputtering deposition ...
  • Kao-Yuan Wang, Ting-Chang Chang, Wen-Chung Chen, Yong-Ci Zhang, Yi-Ting Tseng, ...
  • Chen, Xiaomeng, et al. "Low-temperature chemical vapor deposition of tantalum ...
  • Fabien Volpi, Lionel Cadix, Gregory Berthomé, Stéphane Coindeau, Thierry Encinas, ...
  • Babaei, Kazem, et al. "Surface characterization and electrochemical properties of ...
  • D. Bernoulli, U. Muller, M. Schwarzenberger, R. Hauert, R. Spolenak, ...
  • T. Zhou, D. Liu, Y. Zhang, T. Ouyang, J. Suo, ...
  • Hu, Yingying, et al. "Influence of N۲ Flows on Sputtered ...
  • V. Davydov, Adsorption on Silica Surfaces, in: Eugène Papirer (Ed.), ...
  • F. Mazen, T. Baron, G. Brémond, N. Buffet, N. Rochat, ...
  • J. Yang, B. Liu, Y. Wang, K. Xu, “Kinetic surface ...
  • J. Nazon, J. Sarradin, V. Flaud, J.-C. Tedenac, N. Fréty, ...
  • N. arshi, J. Lu, Y.K. Joo, J.H. Yoon, B.H. Koo, ...
  • W.-H. Lee, J.-C. Lin, C. Lee, “Characterization of tantalum nitride ...
  • J.A. Thornton, “The microstructure of sputter‐deposited coatings” J. Vac. Sci. ...
  • I. Petrov, P. Barna, L. Hultman, J. Greene, “Microstructural evolution ...
  • Dai, Wei, and Yunzhan Shi. "Effect of bias voltage on ...
  • Hantehzadeh, M. R., et al. "The effect of temperature on ...
  • Cherfi, D. E., et al. "Effects of Nitrogen Flow Rate ...
  • Zaman, Anna. Characterization of tantalum nitride thin films synthesized by ...
  • L.R Shen, et.al,” Document details - Facile preparation and upconversion ...
  • Y.Z. Liu, et.al, “Phase formation in nitrogen ion implanted Ti–Al–Zr ...
  • N.Kalyanasundaram, et.al, “Stress evolution due to medium‐energy ion bombardment of ...
  • Y.Z Liu, et.al,”Phase formation in nitrogen ion implanted Ti‐Al‐Zr alloy ...
  • I. Betlej, et.al, “settings Effect of Cu, Zn and Ag ...
  • S. S. Patila, et.al, “Corrosion resistance study of agon implanted ...
  • Ch. Wang, et.al, “Thin film transfer for the fabrication of ...
  • Zh-H. Cui, et.al, “Theoretical Investigation of Ta۲O۵, TaON, and Ta۳N۵: ...
  • A.H. Ramezani, et.al, “Structural modification of tantalum crystal induced by ...
  • A.H. Ramezani, et.al, “Microstructure and corrosion resistance of tantalum after ...
  • A.H. Ramezani, et.al, “Corrosion resistance modification of AISI ۳۰۴ stainless ...
  • S. Hoseinzadeh, et.al, “n-type WO۳ sem iconductor as a cathode ...
  • S. Hoseinzadeh, et.al, “Effect of Post-annealing on the Electrochromic Propertiesof ...
  • S. Hoseinzadeh ,et.al,” Tantalum/ Nitrogen and n-type WO ۳ emiconductor/FTO ...
  • W. Dai, Y. Shi, Coatings ۱۱, ۹۱۱ (۲۰۲۱)۴۶. I.-S. Kim, ...
  • Johs, B.D.; Hale, J.; Ianno, N.J.; Herzinger, C.M.; Tiwald, T.E.; ...
  • نمایش کامل مراجع