رسوب لایه اتمی Atomic Layer Deposition
سال انتشار: 1402
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 176
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
CELCONF02_021
تاریخ نمایه سازی: 26 اسفند 1402
چکیده مقاله:
رسوب گذاری لایه نازک به روش های مختلف انجام می گیرد که هر کدام از آنها کاربردهای مختلفی در صنعت دارد. در این مقاله به بررسی روشهای رسوب لایه اتمی ( ( ALD پرداخته شده است. همچنین ابزارهای مدلسازی و کاربردهای آنها را شرح میدهد. در ادامه ی این مطالعه، به بررس انواع و همچنین ویژگی ها، مزایا و کاربردهای روش رسوب لایه اتمی می پردازد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
سیدمحمد علوی
دانشیار دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام
جلایر فرزام
دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه جامع امام حسین علیه السلام