Effects of the Channel Length on the Nanoscale Field Effect Diode Performance

سال انتشار: 1397
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 95

فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_JOPN-3-2_003

تاریخ نمایه سازی: 25 بهمن 1402

چکیده مقاله:

Field Effect Diode (FED)s are interesting device in providing the higherON-state current and lower OFF–state current in comparison with SOI-MOSFETstructures with similar dimensions. The impact of channel length and band-to-bandtunneling (BTBT) on the OFF-state current of the side contacted FED (S-FED) has beeninvestigated in this paper. To find the lowest effective channel length, this device issimulated with ۷۵, ۵۵ and ۳۵ nm channel length and the results obtained are presentedin this article. Our numerical results show that the ION/IOFF ratio can be varied from ۱۰۴to ۱۰۰ for S-FED as the channel lengths decrease. We demonstrate that for channellengths shorter than ۳۵ nm by considering the Band-to-Band tunneling model, the SFEDdevice does not turn off.

کلیدواژه ها:

Field Effect Diode (FED) ، Side Contacted FED (S-FED) ، Band-To- Band-Tunneling (BTBT) ، ION/IOFF Ratio

نویسندگان

arash rezaei

Department of Electrical & Computer Engineering, Babol Noshirvani University of Technology, Babol, Iran.

Bahram Azizollah-Ganji

Department of Electrical & Computer Engineering, Babol Noshirvani University of Technology, Babol, Iran.

Morteza Gholipour

Department of Electrical & Computer Engineering, Babol Noshirvani University of Technology, Babol, Iran.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • REFERENCESB. Yu, L. Wang, Y. Yuan, P. M. Asbeck and ...
  • Available: http://www.worldscientific.com/doi/abs/۱۰.۱۱۴۲/s۰۲۱۹۵۸۱x۱۱۰۰۷۹۱۰[۲] A.Kranti, T. M. Chung, and J.-P. Raskin. Gate ...
  • Available: https://www.worldscientific.com/doi/abs/۱۰.۱۱۴۲/S۰۲۱۹۵۸۱X۰۵۰۰۴۰۰۵[۳] F. Raissii. A brief analysis of the field ...
  • Available: https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/۴۸۱۷۴۲[۴] I.Sheikhian and F.Raissi. High-speed Digital family using Field ...
  • Available: https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/۱۱۸۴۰۵۷[۵] I.Sheikhian and F.Raissi. An Improved Differential Comparator with ...
  • Available: http://www.worldscientific.com/doi/abs/۱۰.۱۱۴۲/S۰۲۱۸۱۲۶۶۰۵۰۰۲۶۸۴[۶] S. Cao, A. A. Salman, J. –H. Chun, ...
  • Available: https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/۵۲۸۰۷۲۷[۸] M. Amirmazlaghani and F. Raissi, Memory cell using ...
  • Available: https://www.jstage.jst.go.jp/article/elex/۶/۲۲/۶_۲۲_۱۵۸۲/_article/-char/ja[۹] Yang Y, Gangopadhyay A, Li Q, Ioannou DE, ...
  • Available: https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/۵۳۷۸۰۴۵[۱۰] F. Jazayeri, B. Forouzandeh and F. Raissi, Low-power ...
  • Available: https://www.jstage.jst.go.jp/article/elex/۶/۱/۶_۱_۵۱/_article/-char/ja[۱۱] F. Jazayeri, S. Soleimani-Amori, B. Ebrahimi, B. Forouzandeh, ...
  • Available: https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/۴۸۰۲۴۸۷[۱۲] I. Sheikhian and F. Raissi, Simulation results for ...
  • Available: https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/۴۱۱۴۸۵۸[۱۳] N. Manavizadeh, F. Raissi, E. A. Soleimani, M. ...
  • Available: https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/۵۷۷۹۷۱۶[۱۴] F. Raissi and I. Sheikhian. Nano-scale transistor device ...
  • Available: https://patents.google.com/patent/EP۱۹۶۵۴۳۷A۱/en[۱۵] J. J. Sanchez, K. K. Hsueh, and T. ...
  • Available: https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/۲۴۳۵۷[۱۶] International Device Simulation Software, SILVACO TCAD. (۲۰۱۰) ...
  • نمایش کامل مراجع