Optical properties of silicon nano layers by using Kramers- Kronig method
محل انتشار: مجله بین المللی ریاضیات صنعتی، دوره: 6، شماره: 1
سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 38
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_IJIM-6-1_010
تاریخ نمایه سازی: 27 دی 1402
چکیده مقاله:
Silicon thin layers are deposited on glass substrates with the thickness of ۱۰۳ nm, ۱۴۷ nm and ۱۹۷ nm. The layers are produced with electron gun evaporation method under ultra-high vacuum condition. The optical Reectance and the Transmittance of produced layers were measured by using spectrophotometer. The optical functions such as, real and imaginary part of refractive index, real and imaginary part of dielectric constant, real and imaginary part of conductivity, absorption coeficient and optical band gap energy are calculated basing on the Kramers-Kronig relations. The void fractions of the silicon lms are calculated by using Aspnes theorem. The effect of layer thickness on optical properties of silicon thin lms is investigated.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
H. Kangarlou
Department of Physics, Urmia Branch, Islamic Azad University, Urmia, Iran.