ناشر تخصصی کنفرانس های ایران

لطفا کمی صبر نمایید

Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
ناشر تخصصی کنفرانسهای ایران
ورود |عضویت رایگان |راهنمای سایت |عضویت کتابخانه ها
عنوان
مقاله

بررسی ریزساختاری آغشته سازی پالادیم در آند نیکل/سریا دوپ شده با گادلینیمNi/GDC)برای پیل سوختی اکسید جامد دما متوسطITSOFC)

سال انتشار: 1391
کد COI مقاله: IMES06_556
زبان مقاله: فارسیمشاهده این مقاله: 521
فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

خرید و دانلود فایل مقاله

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این مقاله را که دارای 10 صفحه است به صورت فایل PDF در اختیار داشته باشید.
آدرس ایمیل خود را در کادر زیر وارد نمایید:

مشخصات نویسندگان مقاله بررسی ریزساختاری آغشته سازی پالادیم در آند نیکل/سریا دوپ شده با گادلینیمNi/GDC)برای پیل سوختی اکسید جامد دما متوسطITSOFC)

فاطمه سادات ترک نیک - دانشجوی دکتری-مهندسی مواد پژوهشگاه مواد و انرژی؛
منصور کیانپورراد - دکتری-شیمی پلیمر؛ استاد؛ عضو هیات علمی پژوهشگاه مواد و انرژی
امیر مقصودی پور - دکتری مهندسی مواد
Gyeong Man Choi - Ph.D.–Ceramics; Professor; Faculty Member of Pohang University of Science and Technology (POSTECH) and Fuel Cell Research Center Director

چکیده مقاله:

انگیزه استفاده از نانوذرات در ساخت آند پیل سوختی اکسید جامد، بدلیل رفتار کاتالیزوری نانومواد است. برای اتصال مناسب آند و الکترولیت، سینترینگ دما بالا ضروری است. کاهش سطح موثر ذرات بدلیل رشد دانه در دمای بالا،فعالیت الکتروکاتالیزوری را محدود می کند. یکی از راهکارها، کاهش دمای کاری پیل سوختی اکسید جامد به دمای (ITSOFC) 400-600°C است. در این راستا، اتصال نانوذرات به ساختار میکرونی آندهای متداول، با حفظ پایداری مکانیکی آند اولیه، منجر به افزایش فعالیت الکتروکاتالیزوری آند می شود. تکنیک رسوب کاتالیزورِ نانوذره در اسکلت آند پیش-سینترشده، آغشته سازی یا نفوذکاری است. از مزایای این روش می توان به افزایش طول مرز-سه-فازی، کوتاهی مسیر دیفوزیون، گستره وسیع تر انتخاب مواد و ارتقاء ریزساختار و سینتیک واکنش سطحی آند اشاره کرد.

کلیدواژه ها:

نانوذرات، پالادیم، آغشته سازی، آندNi/GDCپیل سوختی اکسید جامد دما متوسط ITSOFC

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

کد یکتای اختصاصی (COI) این مقاله در پایگاه سیویلیکا IMES06_556 میباشد و برای لینک دهی به این مقاله می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:

https://civilica.com/doc/180112/

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
ترک نیک، فاطمه سادات و کیانپورراد، منصور و مقصودی پور، امیر و Man Choi، Gyeong،1391،بررسی ریزساختاری آغشته سازی پالادیم در آند نیکل/سریا دوپ شده با گادلینیمNi/GDC)برای پیل سوختی اکسید جامد دما متوسطITSOFC)،اولین همایش بین المللی و ششمین همایش مشترک انجمن مهندسی متالورژی ایران،تهران،،،https://civilica.com/doc/180112

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (1391، ترک نیک، فاطمه سادات؛ منصور کیانپورراد و امیر مقصودی پور و Gyeong Man Choi)
برای بار دوم به بعد: (1391، ترک نیک؛ کیانپورراد و مقصودی پور و Man Choi)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مدیریت اطلاعات پژوهشی

صدور گواهی نمایه سازی | گزارش اشکال مقاله | من نویسنده این مقاله هستم

اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

علم سنجی و رتبه بندی مقاله

مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
نوع مرکز: پژوهشگاه دولتی
تعداد مقالات: 1,271
در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

مقالات پیشنهادی مرتبط

مقالات مرتبط جدید

به اشتراک گذاری این صفحه

اطلاعات بیشتر درباره COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.

پشتیبانی