بررسی تاثیر دما و نرخ حرارت دهی عملیات آنیل بر بهبود خواص الکتریکی و نوری لایه نازک نانو ساختار اکسید ایندیم قلعITO)
سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 627
فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IMES06_284
تاریخ نمایه سازی: 8 بهمن 1391
چکیده مقاله:
لایه نازک نانوساختار اکسید ایندیم قلعITO) با شفافیت بالا در محدوده نور مرئی و هدایت مناسب به روش لایه نشانی چرخشی تهیه شد. بدین منظور، محلول سل اولیه شامل محلول های کلرید ایندیم و کلرید قلع با روش لایه نشانی چرخشی بر روی زیر لایه با سرعت 3000 دور بر دقیقه نشانده شد. سپس لایه ایجاد شده در دمای 501° خشک شده و تحت عملیات آنیل در محدوده دمایی 300 تا 700° با نرخ حرارت دهی 2 و 5°C/min قرار گرفت. جهت بررسی لایه های نازک از پراش پرتو اشعهXRD) Xمیکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانیFESEM) روش مقاومت سنجی چهار نقطه ای و طیف سنجی جذب و نشر استفاده شد. موقعیت پیک ها در طیف های آنالیزXRD موید تشکیل فازهای کریستالی مکعبی بیکسبیتIn2O3و فاز کریستالی رومبوهدرالITO می باشد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
سعید محمدی
فارغ التحصیل کارشناسی ارشد، دانشکده مهندسی متالورژی و مواد ، پردیس دا
حسین عبدی زاده
دانشیار، دانشکده مهندسی متالورژی و مواد ، پردیس دانشکده های فنی، دان
محمدرضا گل وبستان فرد
دانشجوی دکتری، دانشکده مهندسی متالورژی و مواد ، پردیس دانشکده های فن
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :