CFD -based optimization of MOCVD process in an atmospheric pressure vertical rotating disk reactor
محل انتشار: چهاردهمین کنگره ملی مهندسی شیمی ایران
سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 1,333
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NICEC14_365
تاریخ نمایه سازی: 3 آذر 1391
چکیده مقاله:
In this work,optimization of metalorganic chemical vapor deposition process for more layer thickness uniformity with especial attention to reactor geometric parameters as decisions variables is presented.A numerical solution to a steady thermal flow associated with multi-species and chemical reactions in atmospheric pressure axisymmetrical rotating disk reactor corresponding to metalorganic chemical vapor deposition process, by the CFD technique is obtained. Then validation of the numerical results with thebenchmark solutions is conducted and finally integrating the CFD simulator with an optimization program as a new approach is carried out to obtain the optimum value of decision variables.The obtained optimum configuration, results in a decrease in thickness deviation of deposited film from 29.8% to 16.5%.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :