تاثیر دمای بستر بر ویژگی های ساختاری، نوری، الکتریکی و ریخت شناسی لایه های نازک اکسید روی

مقاله حاضر تاثیر دمای بستر را بر ویژگی های فیزیکی لایه های نازک اکسید روی (ZnO) رسوب شده با استفاده از روش افشانه پیرولیز گزارش می کند. این لایه ها ماهیتی بس بلوری با جهت گیری ترجیحی در امتداد [۰۰۲] نشان می دهند. علاوه بر این، اندازه متوسط بلورک ها با افزایش دمای بستر افزایش می یابد. نتایج میکروسکوپ الکترونی روبشی نشان داد که لایه ها به طور یکنواخت و همگن توزیع شده اند. میانگین عبور اپتیکی، بسته به دمای بستر، بین ۶۲ تا ۹۰ درصد متغیر است. از طرف دیگر، با افزایش دمای بستر، ضریب جذب کاهش می یابد و گاف نواری اپتیکی در محدوده ۳٫۲۵ – ۳٫۲۸ الکترون ولت تغییر می کند. رسانش الکتریکی لایه ها نیز بین (mS.cm-۱) ۱۸ تا ۵۸ متغیر است.

کلیدواژه ها:

لایه های نازک ZnO ، دمای بستر ، اسپری پیرولیز ، ریخت شناسی ، گاف نواری اپتیکی ، رسانش الکتریکی