ترانزیستور TFET، ساختار فیزیکی عملکرد و بهترین حالت بهینه جریان و ولتاژ

سال انتشار: 1401
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 420

فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICNRTEE01_023

تاریخ نمایه سازی: 11 اردیبهشت 1402

چکیده مقاله:

اخیرا کوچک سازی ترانزیستورهای CMOS به اندازه های زیر ۱۰۰nm برای رسیدن به سرعت بیشتر با مشکلات زیادی افزایش سوئیچینگ جریان نشتی ،بالا اثرات کانال کوتاه و .... روبرو شده است از این رو ترانزیستور اثر میدان تونلی TFET یکی از بهترین نیمه هادی های در حال حاضر برای جایگزینی ترانزیستورهای اثر میدان MOSFET ،است در این مقاله ما با ایجاد تغییر در جنس ساختار ترانزیستور به بررسی حالتی بهینه جهت افزایش جریان دهی TFET در ولتاژهایی متفاوت میپردازیم.

کلیدواژه ها:

ترانزیستور اثر میدان تونلی ، کانال ، سورس ، درین ، ژرمانیم ، سیلیسیوم

نویسندگان

مزدک رادملکشاهی

دانشگاه رازی، دانشکده برق و کامپیوتر

امید فتاحی خواه

دانشگاه رازی، دانشکده برق و کامپیوتر

نوید اصغری

دانشگاه رازی، دانشکده برق و کامپیوتر

هانیه السادات بی باک

دانشگاه رازی، دانشکده برق و کامپیوتر