بررسی لایه نشانی بخار شیمیایی آلی- فلزی و آخرین دستاوردها در این روش لایه نشانی
سال انتشار: 1401
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 319
فایل این مقاله در 11 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ECICONFE07_060
تاریخ نمایه سازی: 31 فروردین 1402
چکیده مقاله:
یکی از مراحلی که در ساخت ادوات نیمه هادی مورد استفاده قرار میگیرد لایهنشانی است که روشهای مختلفی تا به امروز برای آن به وجود آمده است و MOCVD یکی از این روشها میباشد که فرایندی برای تولید ساختارهای چند لایه نیمه هادی پیچیده که در قطعات الکترونیکی یا اپتوالکترونیکی مانند LED ها و لیزرها و ترانزیستورهای سرعت بالا یا سلولهای خورشیدی استفاده میشود. از مزایای این روش میتوان نرخ رسوب بالا، راکتور ساده، امکان استفاده از مواد مختلف و فیلمهای با کیفیت بالا اشاره کرد و معایب آن درجه حرارت بالا، گازهای سمی، منابع گازی گرانقیمت و پیش ماده های خطرناک میباشد. دستگاه هایی که این روش به وسیله آنها انجام میشود شامل اجزای راکتور، پنل گاز و سیستم تخلیه هستند که راکتورها خود به دو دسته افقی و عمودی تقسیم میشوند و براساس این دو دسته انواع مختلفی از راکتورها تاکنون ساخته شده که برای ساخت ادوات نیمه هادی مختلف مورد استفاده قرار میگیرند.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
سیدمحمد علوی
دانشیار دانشگاه جامع امام حسین(ع)
علی عبدلی جمور
دانشیار دانشگاه جامع امام حسین(ع)