بررسی عددی تاثیر چرخش زیر لایه و فاصله الکترودها بر لایه نشانی سیلیکون در رآکتور PECVD

لایه نشانی شیمیایی بخار به کمک پلاسما یکی از پرکاربردترین روش های لایه نشانی است که معمولا در دماهای کمتر از ۳۵۰درجه سانتی گراد صورت می گیرد. در این روش، لایه نشانی می تواند در دمای پایین و با سرعت قابل قبولی صورت گیرد. در این سیستم، توان الکتریکی با ولتاژ نسبتا بالا و در فشار پایین برای یونیزه کردن گاز فراهم می شود که باعث شکستن مولکول های گاز به رادیکال ها و یون ها می شود. در مقاله حاضر لایه نشانی فیلم نازک سیلیکون در رآکتور PECVD شبیه سازی شده و تاثیر پارامترهای چرخش زیر لایه و فاصله الکترودهای بر لایه نشانی روی زیر لایه مورد بحث و بررسی قرار گرفته است. ورودی رآکتور، گاز سیلان (SiH۴)، به عنوان گاز اصلی واکنش دهنده می باشد. در این شبیه سازی، محیط گازی را محیطی پیوسته، جریان گاز را جریانی آرام و از اثرات تابش صرف نظر نموده و گازها در محیط پلاسما ایده آل در نظر گرفته شده است. در نتیجه این شبیه سازی اثر افزایش فاصله الکترودها بر لایه نشانی سیلیکون بر روی زیر لایه، افزایشی و اثر چرخش زیر لایه افزایشی کاهشی مشاهده شده است.

کلیدواژه ها:

لایه نشانی به کمک پلاسما ، شبیه سازی ، سیلیکون ، چرخش زیر لایه ، فاصله الکترودها