طراحی بهینه توزیع یکنواخت میدان الکتریکی با استفاده از تزریق لایه ریزدانه های اکسیدروی و بکارگیری اجزای محدود و الگوریتم اجتماع ذرات

سال انتشار: 1401
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 101

فایل این مقاله در 11 صفحه با فرمت PDF و WORD قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

AISC01_039

تاریخ نمایه سازی: 16 آبان 1401

چکیده مقاله:

ابعاد و شکل پوشش عایقی برقگیر تاثیر بسزایی در توزیع میدان الکتریکی آن دارد. لذا با هدف یکنواخت کردن توزیع میدان، می توان طول بهینه سپرهای پوشش عایقی برقگیر را بدست آورده و شدت تنش های الکتریکی بالا در مجاورت ترمینالهای برقگیر را کاهش داد. روشی دیگر برای کاهش شدت میدان استفاده از ریزدانه های اکسیدروی می باشد که به دلیل دارا بودن خاصیت غیرخطی باعث کاهش شدت میدان الکتریکی می گردند. به این منظور، می توان از یک لایه ی نازک از ریزدانه های اکسیدروی در پوشش عایقی برقگیر استفاده کرد. در این مقاله، تاثیر استفاده از ریزدانه های اکسیدروی در پوشش عایقی برقگیر بر توزیع میدان بررسی شده و با تغییر محل ریزدانه ها، محل مناسب برای تزریق آنها در پوشش عایقی برقگیر به دست آمده است. همچنین تاثیر ابعاد بهینه پوشش عایقی برقگیر و لایه ریزدانه در توزیع میدان الکتریکی مورد بررسی قرار گرفته است. به این ترتیب، با کمینه شدن میدان الکتریکی در نواحی ای که شدت میدان در آن نقاط زیاد است، طول عمر برقگیر افزایش پیدا خواهد کرد. در این مقاله توزیع میدان به روش اجزاء محدود بدست آمده و بهینه سازی با استفاده از الگوریتم اجتماع ذرات انجام گرفته است.

کلیدواژه ها:

نویسندگان

مرتضی قایدی

دانشگاه بیرجند