لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
Moore G. E., (۲۰۰۶), Cramming more components onto integrated circuits. ...
Hopkinson M., (۲۰۱۵), With silicon pushed to its limits, what ...
“International technology roadmap for semiconductors,” (۲۰۰۷), http://www.itrs.net ...
Kuhn K. J., (۲۰۱۱), CMOS scaling for the ۲۲ nm ...
Roy K., Mukhopadhyay S., Mahmoodi-Meimand H., (۲۰۰۳), Leakage current mechanisms ...
Frank D. J., Dennard R. H., Nowak E., Solomon P. ...
Chenming H., (۱۹۹۶), Gate oxide scaling limits and projection. Tech. ...
Yee-Chia Y., Tsu-Jae K., Chenming H., (۲۰۰۳), MOSFET gate leakage ...
Chen J., Chan T. Y., Chen I. C., Ko P. ...
“International technology roadmap for semiconductors,” (۲۰۱۱), http://www.itrs.net ...
Skotnicki T., Hutchby J. A., Tsu-Jae K., Wong H. P., ...
Wong H. P., Frank D. J., Solomon P. M., (۱۹۹۸), ...
Solomon P. M., Guarini K. W., Zhang Y., Chan K., ...
Suzuki K., Tanaka T., Tosaka Y., Horie,H., Arimoto Y., (۱۹۹۳), ...
Nowak E. J., Aller I., Ludwig T., Kim K., Joshi ...
Salahuddin S. M., Shaik K. A., Gupta A., Chava B., ...
A Project funded byMHRD, Govt. of India, (۲۰۲۱), https://nptel.iitm.ac.in ...
Xie Q., Xu J., Taur Y., (۲۰۱۲), Review and critique ...
Girish H., Shashikumar D., (۲۰۱۶), Insights of performance enhancement techniques ...
Agarwal A., Mukhopadhyay S., Kim C. H., Raychowdhury A., Roy ...
Islam A., Hasan M., (۲۰۱۲), Leakage characterization of ۱۰T SRAM ...
He Y., Zhang J., Wu X., Si X., Zhen S., ...
Chang L., Fried D. M., Hergenrother J., Sleight J. W., ...
Chang I. J., Kim J., Park S. P., Roy K., ...
Chang M., Chiu Y., Hwang W., (۲۰۱۲), Design and Iso-Area ...
Chien Y., Wang J., (۲۰۱۸). A ۰.۲ V ۳۲-Kb ۱۰T ...
Chiu Y., Hu Y., Tu M., Zhao J., Jou S., ...
Wen L., Zhang Y., Zeng X., (۲۰۱۹), Column-selection-enabled ۱۰T SRAM ...
Torrens G., Alorda B., Carmona C., MalagÓn-PeriÁnez D., Segura J., ...
Grover A., Visweswaran G. S., Parthasarathy C. R., Daud M., ...
Pasandi G., Fakhraie S. M., (۲۰۱۴), An ۸T low-voltage and ...
Hisamoto D., Kaga T., Kawamoto Y., Takeda E., (۱۹۸۹), A ...
Hisamoto D., Wen-Chin L., Kedzierski J., Takeuchi H., Asano K., ...
Bin Y., Leland C., Ahmed S., Haihong W., Bell S., ...
Tang S. H., Chang L., Lindert N., Yang-Kyu C., Wen-Chin ...
Guillorn M., Chang J., Bryant A., Fuller N., Dokumaci O., ...
Fu-Liang Y., Di-Hong L., Hou-Yu C., Chang-Yun C., Sheng-Da L., ...
Xuejue H., Wen-Chin L., Charles K., Hisamoto D., Leland C., ...
Intel’s Revolutionary ۲۲nm Transistor Technology, May ۲۰۱۱. http://download.intel.com/newsroom/kits/۲۲nm/pdfs/۲۲nm-detailspresentation.pdf ...
Zimpeck A. L., Meinhardt C., Posser G., Reis R., (۲۰۱۶), ...
Joshi R. V., Ziegler M. M., Wetter H., (۲۰۱۷), A ...
Joshi R. V., Ziegler M., Wetter H., Wandel C., Ainspan ...
Song T., Rim W., Park S., Kim Y., Yang G., ...
Kang K., Jeong H., Yang Y., Park J., Kim K., ...
Sinangil M. E., Lin Y., Liao H. J., Chang J., ...
Turi M. A., Delgado-Frias J. G., (۲۰۲۰), Effective low leakage ...
Sun J., Li X., Sun Y., Shi Y., (۲۰۲۰), Impact ...
Kam H., (۲۰۱۴), A ۱۴nm logic technology featuring ۲ nd-generation ...
Lin C., Greene B., Narasimha S., Cai J., Bryant A., ...
Giterman R., Shalom A., Burg A., Fish A., Teman A., ...
Cho K., Park J., Oh T. W., Jung S.-O., (۲۰۲۰), ...
Huo Q., Wu Z., Wang X., Huang W., Yao J., ...
Sinha S. K., Chaudhury S., (۲۰۱۳), Impact of Oxide thickness ...
Kumar G., Singh A., Raj B., (۲۰۱۸), Design and analysis ...
Dresselhaus M. S., Dresselhaus G., Saito R., (۱۹۹۲), Carbon fibers ...
Nano HUB Tools [Online]. Available: www.nanohub.org ...
Li T., Xie F., Liang X., Xu Q., Chakrabarty K., ...
Ahmed Z., Zhang L., Sarfraz K., Chan M., (۲۰۱۶), Modeling ...
Tura A., Woo J. C. S., (۲۰۱۰), Performance comparison of ...
Chen Y., Fan M., Hu V. P., Su P., Chuang ...
Strangio S., Palestri P., Esseni D., Selmi L., Crupi F., ...
Knoll L., Zhao Q., Nichau A., Trellenkamp S., Richter S., ...
Richter S., Schulte-Braucks C., Knoll L., Luong G. V., Schäfer ...
Agrawal N., Liu H., Arghavani R., Narayanan V., Datta S., ...
Chang M., Chang S., Chou P., Wu W., (۲۰۱۱), A ...
Farkhani H., Peiravi A., Moradi F., (۲۰۱۵), A new write ...
Yamaoka M., Osada K., Tsuchiya R., Horiuchi M., Kimura S., ...
Kumar R., Pattanaik M., Shukla N., (۲۰۱۲), Characterization of a ...
Razavipour G., Afzali-Kusha A., Pedram M., (۲۰۰۹), Design and analysis ...
Teman A., Mordakhay A., Mezhibovsky J., Fish A., (۲۰۱۲), A ...
Ahmad S., Gupta M. K., Alam N., Hasan M., (۲۰۱۶), ...
Lee Y., Park G.-H., Choi B., Yoon J., Kim H.-J., ...
Lin Y., Cheng C., Jhan Y., Kurniawan E. D., Du ...
Endo K., uchi S. O., Ishikawa Y., Liu Y., Matsukawa ...
Bansal A., Mukhopadhyay S., Roy K., (۲۰۰۷), Device-optimization technique for ...
Waffle F., Salehuddin F., Mohd Zain A. S., Kaharudin K. ...
Nawaz M., Molzer W., Decker S., Giles L.-F., Schulz T., ...
Nawaz M., Molzer W., Haibach P., Landgraf E., Roesner W., ...
Zhang Z., Jiang X., Wang R., Guo S., Wang Y., ...
Fan M., Wu Y., Hu V. P., Hsieh C., Su ...
Kerber P., Kanj R., Joshi R. V., (۲۰۱۳), Strained SOI ...
Oh T. W., Jeong H., Kang K., Park J., Yang ...
Saxena S., Mehra R., (۲۰۱۷), Low-power and high-speed ۱۳T SRAM ...
Yang Y., Park J., Song S. C., Wang J., Yeap ...
Ebrahimi B., Afzali-Kusha A., Mahmoodi H., (۲۰۱۴), Robust FinFET SRAM ...
Carlson A., Guo Z., Balasubramanian S., Zlatanovici R., Liu T. ...
Park J., Yang Y., Jeong H., Song S. C., Wang ...
Ansari M., Afzali-Kusha H., Ebrahimi B., Navabi Z., Afzali-Kusha A., ...
Yang Y., Jeong H., Song S. C., Wang J., Yeap ...
Guler A., Jha N. K., (۲۰۱۹), Three-dimensional monolithic FinFET-based ۸T ...
Pal P. K., Kaushik B. K., Dasgupta S., (۲۰۱۴), Design ...
Zheng P., Connelly D., Ding F., Liu T. K., (۲۰۱۵a), ...
Zheng P., Connelly D., Ding F., Liu T. K., (۲۰۱۵b), ...
Akkala A. G., Venkatesan R., Raghunathan A., Roy K., (۲۰۱۶), ...
Jaksic Z., Canal R., (۲۰۱۳), Comparison of SRAM cells for ...
Zhang X., Connelly D., Zheng P., Takeuchi H., Hytha M., ...
Zhang X., Connelly D., Takeuchi H., Hytha M., Mears R., ...
Mann R. W., Zhao M., Parihar S., Gao Q., Arya ...
Kanhaiya P. S., Lau C., Hills G., Bishop M. D., ...
You K., Nepal K., (۲۰۱۱), Design of a ternary static ...
Zhang Z., Delgado-Frias J. G., (۲۰۱۲), Carbon nanotube SRAM design ...
Zhang Z., Delgado-Frias J. G., (۲۰۱۴), Near-threshold CNTFET SRAM cell ...
Liu J., Clavel M. B., Hudait M. K., (۲۰۱۷), An ...
Makosiej A., Gupta N., Vladimirescu A., Vakul N., Cotofana S., ...
Pown M., Lakshmi B., (۲۰۲۰), Investigation of radiation hardened TFET ...
Chen Y., Fan M., Hu V. P., Su P., Chuang ...
Amir M. F., Trivedi A. R., Mukhopadhyay S., (۲۰۱۶), Exploration ...
Peng C., Yang Z., Lin Z., Wu X., Li X., ...
Mohammed M. U., Chowdhury M. H., (۲۰۱۸), Reliability and energy ...
Luong G. V., Strangio S., Tiedemann A. T., Bernardy P., ...
Ahmad S., Ahmad S. A., Muqeem M., Alam N., Hasan ...
نمایش کامل مراجع