بهبود نقص های گرافن از طریق پردازش پلاسمایی تحت خلا

مطالعات بنیادی بر روی گرافن و قطعات مبتنی بر گرافن نشان داده که عملکرد آن ها تحت تاثیر نقص ها و ناخالصی های اجتناب ناپذیری است که در هنگامساخت یا انتقال گرافن به زیرلایه جدید ایجاد می شوند. بنابراین، روشهای پسا ساختی برای بهبود کیفیت گرافن همواره موضوع مهمی در جوامع علمی بوده است.در اینجا، ما با استفاده از پلاسمای کم فشار متان و هیدروژن تولید شده با فرکانس رادیویی اقدام به حذف گروه های عاملی اکسیژن و از بین بردن عیوب ساختاریگرافن رشد یافته با روش لایه نشانی بخار شیمیایی کرده ایم. این روش، راه حل موثر برای به دست آوردن گرافن با کیفیت مناسب را ارائه می دهد.