بررسی خواص الکترومغناطیسی لایه ضخیم فریت باریم تشکیل شده به روش سل - ژل

لایه ضخیم فریت باریم با ترکیب BaFe12O19 با استفاده از فرایند سل - ژل به روش چرخشی تهیه شد سل توسط پودرهای توزیع یافته درمحلول اولیه فریت باریم تشکیل شد ارزیابی ساختار ترکیب و خواص مغناطیسی لایه ضخیم فریت باریم توسط VSM EDX SEM XRD پذیرفتارسنج ac انجام شد نتایج نشان داد که می توان پوشش فریت باریم عاری از ترک با ضخامت حدود 15μm تولید کرد مشخص شد که حلقه های پسماند مغناطش برای میدان مغناطیسی اعمالی در دو حالت موازی و عمودی تقریبا یکسان بودند.

کلیدواژه ها:

فریت باریم ، لایه ضخیم ، خواص مغناطیسی ، سل - ژل