Lantha num oxide as a diele ctric for t he future of CMIS devices

سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 143

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ISPTC15_1071

تاریخ نمایه سازی: 11 دی 1400

چکیده مقاله:

Vario us condition s for synthesis of pure nanoparticles have been studied, at relativel y low temperatures in air atmospheres. In this w ay some unwanted – bo nds have be en created o n the crystallite surface which can affect on nanostructur al propertie s. Therefore, it is imperative production of nanotransistor d evices without tunneling and leakage currents for growing of so clean and pure ultra thin films. The band gap and dielectric constant of La۲O۳ is ۵.۵ eV and ۳۰ respectively [۱]. L a۲O۳ does not cause the degradatio n of dielectric constant due to its h igher dielectric constant SiO۲ or Al۲ O۳. In this work we wer e synthesiz ed La۲O۳ via sol-gel method.

کلیدواژه ها:

نویسندگان

v Hayati

Department of physics, University of Mazandaran, Ba bolsar, Iran

a Bahari

Department of physics, University of Mazandaran, Ba bolsar, Iran

a. Ramzannezh ad

Department of physics, University of Mazandaran, Ba bolsar, Iran